表面処理装置 走査型イオン銃 「40E1型」
表面処理装置 走査型イオン銃
２段の射出レンズにより、イオンビームのスポット径が容易に調整できる収束型イオン銃です。
- 企業：株式会社テクノポート
- 価格：応相談
銃 - 企業7社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2025年04月09日～2025年05月06日
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企業ランキング
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- 株式会社オメガトロン 茨城県/産業用電気機器
- ネッパジーン株式会社 千葉県/その他
- VISTA株式会社 山梨県/産業用電気機器
- 4 アズサイエンス株式会社 長野県/商社・卸売り 松本本社
- 4 株式会社テクノポート 東京都/試験・分析・測定
製品ランキング
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- パーティクルデリバリー遺伝子銃『ジーンガンシステムGDS-80』 ネッパジーン株式会社
- コールドカソードイオン銃 株式会社オメガトロン
- 回転型多連電子銃 VISTA株式会社
- 電磁石型コールドカソードイオン銃『OMI-0015CKE』 株式会社オメガトロン
- 4 BS/JEBG/EBG series 電子銃 アズサイエンス株式会社 松本本社
製品一覧
1～15 件を表示 ／ 全 15 件
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電磁石型コールドカソードイオン銃『OMI-0015CKE』
収束ビームとブロードビームの2タイプをご用意！放電電極に対スパッタ性のレアメタルを採用しています
『OMI-0015CKE』は、シンプルで信頼性の高いコールドカソードイオン銃です。 収束性を高めた「タイプA」は、ビーム収束レンズを2段搭載。 また、ブロードビーム型の「タイプB」は、収束レンズを1段としてコストを 抑えつつ、大電流のイオンビームを照射可能です。 どちらの機種も、漏洩磁束が少なくディスチャージコントロール性に優れた 電磁石を採用したモデルです。 【特長】 ■シンプル ■信頼性が高い ■ビーム収束レンズを2段搭載(タイプA) ■コストを抑えつつ、大電流のイオンビームを照射可能(タイプB) ■漏洩磁束が少なくディスチャージコントロール性に優れた電磁石を採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社オメガトロン
- 価格：応相談
パーティクルデリバリー遺伝子銃『ジーンガンシステムGDS-80』
植物細胞にも動物細胞にも対応！空気力学技術を利用した遺伝子導入装置
『ジーンガンシステムGDS-80』は、空気力学技術を利用した遺伝子導入装置です。 ガスチャンバーの内部と外部の圧力差を利用して生み出される超音速ガスを 用いて、遺伝子をコーティングした粒子を秒速300mまで加速させて導入します。 簡単な操作で、高い導入効率を得ることができ、また、機器使用時の騒音が ないほか、研究の商業利用に関する契約書を結ぶ必要はなく、自由な利用が可能です。 【特長】 ■植物細胞にも動物細胞にも対応 ■消耗品がなく、シンプルで低コスト（ラプチャーディスク不要） ■軽くて持ち運びができ、葉などを切り取らずにそのまま導入も可能 ■動物向けでは、金粒子なしでDNA導入も可能 ■商業利用に関する契約書は不要 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：ネッパジーン株式会社
- 価格：応相談
BS/JEBG/EBG series 電子銃
光学薄膜や電極膜など各種薄膜形成に利用される電子ビーム蒸着用電子銃(偏向型)
日本電子株式会社 BS/JEBG/EBG series 電子銃は、光学薄膜や電極膜など各種薄膜形成に利用される電子ビーム蒸着用電子銃(偏向型)です。 〇特長 ・蒸発材料に電子ビームを直接照射し加熱するため熱効率が良く、高融点金属を始め、酸化物や化合物、昇華性物質など様々な材料を蒸発させる事ができます。 ・水冷銅るつぼ内(※)の蒸発材料を直接加熱するため、抵抗加熱式や誘導加熱式のようにボートやるつぼとの反応がありません。 ※ハースライナーを使用する場合もあります。 ・高速で出力制御できるため、精密な膜厚制御が可能です。 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：アズサイエンス株式会社 松本本社
- 価格：応相談
電子顕微鏡関連 UHV電子顕微鏡用静電偏向型電子銃
電子顕微鏡関連 UHV電子顕微鏡用静電偏向型電子銃
【製品仕様】 静電変更型電子銃蒸発源 電子銃容量 20W フィラメント電流：DC10A エミッション電流：max50mA シュラウド水冷用(2L／min) 蒸着材寸法 φ1mm×50mm Ｚ軸可動範囲 ６インチ 取付フランジＩＣＦ７０ シャッター機構付(手動式) シャッター孔径 φ7 ※詳細はお問い合わせ下さい。
- 企業：アトーテック 株式会社
- 価格：応相談
コールドカソードイオン銃
ホットカソードには無い極めて低い温度、低い真空度で動作！
オメガトロンのイオン銃技術とノウハウを結集し、シンプルで信頼性の高いコールドカソードイオン銃を完成させました。 放電電極に高価なレアメタルをおごっているにもかかわらず、最適設計により部品点数を削減したため、品質をより向上させつつ販売価格を１２３万円（税抜き）とすることができました。 また、オプションのユニットをお選び頂ければ、従来のような高機能・高性能タイプにリーズナブルにステップアップすることも可能です。 中性ビーム銃に搭載の同軸型ニュートラライザーをオプションでお選び頂ければセラミックなどの絶縁体の精密ミーリングに威力を発揮します。 非常にシンプルな構造のため信頼性、メンテナンス性に優れ、お客様の手間も最小限です。
- 企業：株式会社オメガトロン
- 価格：100万円 ~ 500万円
コールドカソード減速イオン銃『OMI0750シリーズ』
高精度減速型多段レンズにより、高電流密度の低速イオンビームを照射可能
当製品は、超高真空において使用可能なビームエネルギー10eVから3000eVの 減速型コールドカソードイオン銃です。 効率よくイオンを引き出し、高精度減速型多段レンズにより、高電流密度の 低速イオンビームを照射可能です。 フィラメントがない構造は反応性ガスを使用可能となっており、長寿命の 為メンテナンスサイクルを短くすることが可能。整備性に優れた新設計 ディスチャージチャンバーを採用しております。 また高効率差動排気設計によりメインチャンバーを超高真空度に保ちます。 【特長】 ■減速型コールドカソードイオン銃 ■高電流密度の低速イオンビームを照射可能 ■フィラメントがない構造は反応性ガスを使用できる ■長寿命の為メンテナンスサイクルを短くすることが可能 ■整備性に優れた新設計ディスチャージチャンバーを採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社オメガトロン
- 価格：応相談
低速型電子銃『OME-0035』
ビームエネルギー10eVの低速でも200nA近くの大電流を照射することができます
『OME-0035』は、ビームエネルギー10eVから1100eVの低速型電子銃です。 ビームエネルギー10eVの低速でも200nA近くの大電流を照射可能。 試料表面の帯電中和、ガスのイオン化、二次電子発生試験などに好適です。 また、外部入力端子にパルスアンプ(オプション)を接続すれば パルス発生が可能になり、TOF用のイオン化、精密帯電試験にも 使用出来ます。 【特長】 ■ビームエネルギー：10eV～1100eV ■外部入力端子にパルスアンプを接続すればパルス発生が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社オメガトロン
- 価格：応相談
イオン銃『OMI-0850 series』
大電流のイオンビームを長時間安定的に照射可能！精密素子等の加工時間を短縮します
『OMI-0850 series』は、nmオーダーの超精密加工を可能とする、 RF励起方式のイオン銃です。 大電流のイオンビームを長時間安定的に照射可能ですので、精密素子等の 加工時間を短縮します。独自のニュートラライザーをオプションで 搭載可能とし、絶縁物の加工も可能です。 また、IBF(Ion Beam Figuring)はもちろん、細かく収束制御されたビームは IBSイオンビームスパッタ成膜にも対応できます。 【特長】 ■nmオーダーの超精密加工ができる ■RF励起方式 ■IBSイオンビームスパッタ成膜にも対応 ■独自のニュートラライザーをオプションで搭載可能 ■絶縁物の加工もできる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社オメガトロン
- 価格：応相談
高電流密度イオンビーム型イオン銃
EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃
EUROVAC社(スウェーデン国)は、30年以上前に設立され、ミュンヘンのパーキンエルマー社PHI部門出身の物理学者たちによって運営されています。実用的、技術的、基礎的な研究課題の解決に向け、お客様をサポートする体制を整えています。1998年にEUROVAC社は、バリアン表面科学部門(米国/パロアルト)を買収し、イオン銃、電子銃、LEED、RHEED、CMAの製造をスウェーデンのストックホルムに移管し、製品、スペアパーツ、サービスサポート等を提供する製造メーカーとして信頼性の高い非常に優れた機器を低価格でご提供しております。 【特⾧】 ■ 高電流密度イオンビーム：サンプル表面のスパッタ洗浄及び薄膜構造の迅速で正確な深さプロファイリングに最適です。 ■ スイッチャブルデュアルフィラメント：真空サイクル中でフィラメントがバーンアウトした場合、作業の進行を妨げることなく継続的な操作を可能にする切換式デュアルフィラメント構造になっています。
- 企業：有限会社テク
- 価格：応相談
BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃
学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます
日本電子株式会社 BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃は、真空チャンバー内に設置し、高密度プラズマを発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 〇特長 ・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化 ・反応性蒸着可能 ・大面積へハイレートで成膜が可能 ・様々なレイアウトの真空装置へ搭載することが可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：アズサイエンス株式会社 松本本社
- 価格：1000万円 ~ 5000万円
