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学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます
日本電子株式会社 BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃は、真空チャンバー内に設置し、高密度プラズマを発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 〇特長 ・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化 ・反応性蒸着可能 ・大面積へハイレートで成膜が可能 ・様々なレイアウトの真空装置へ搭載することが可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
収束ビームとブロードビームの2タイプをご用意！放電電極に対スパッタ性のレアメタルを採用しています
『OMI-0015CKE』は、シンプルで信頼性の高いコールドカソードイオン銃です。 収束性を高めた「タイプA」は、ビーム収束レンズを2段搭載。 また、ブロードビーム型の「タイプB」は、収束レンズを1段としてコストを 抑えつつ、大電流のイオンビームを照射可能です。 どちらの機種も、漏洩磁束が少なくディスチャージコントロール性に優れた 電磁石を採用したモデルです。 【特長】 ■シンプル ■信頼性が高い ■ビーム収束レンズを2段搭載(タイプA) ■コストを抑えつつ、大電流のイオンビームを照射可能(タイプB) ■漏洩磁束が少なくディスチャージコントロール性に優れた電磁石を採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
ホットカソードには無い極めて低い温度、低い真空度で動作！
オメガトロンのイオン銃技術とノウハウを結集し、シンプルで信頼性の高いコールドカソードイオン銃を完成させました。 放電電極に高価なレアメタルをおごっているにもかかわらず、最適設計により部品点数を削減したため、品質をより向上させつつ販売価格を１２３万円（税抜き）とすることができました。 また、オプションのユニットをお選び頂ければ、従来のような高機能・高性能タイプにリーズナブルにステップアップすることも可能です。 中性ビーム銃に搭載の同軸型ニュートラライザーをオプションでお選び頂ければセラミックなどの絶縁体の精密ミーリングに威力を発揮します。 非常にシンプルな構造のため信頼性、メンテナンス性に優れ、お客様の手間も最小限です。
高精度減速型多段レンズにより、高電流密度の低速イオンビームを照射可能
当製品は、超高真空において使用可能なビームエネルギー10eVから3000eVの 減速型コールドカソードイオン銃です。 効率よくイオンを引き出し、高精度減速型多段レンズにより、高電流密度の 低速イオンビームを照射可能です。 フィラメントがない構造は反応性ガスを使用可能となっており、長寿命の 為メンテナンスサイクルを短くすることが可能。整備性に優れた新設計 ディスチャージチャンバーを採用しております。 また高効率差動排気設計によりメインチャンバーを超高真空度に保ちます。 【特長】 ■減速型コールドカソードイオン銃 ■高電流密度の低速イオンビームを照射可能 ■フィラメントがない構造は反応性ガスを使用できる ■長寿命の為メンテナンスサイクルを短くすることが可能 ■整備性に優れた新設計ディスチャージチャンバーを採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃
EUROVAC社(スウェーデン国)は、30年以上前に設立され、ミュンヘンのパーキンエルマー社PHI部門出身の物理学者たちによって運営されています。実用的、技術的、基礎的な研究課題の解決に向け、お客様をサポートする体制を整えています。1998年にEUROVAC社は、バリアン表面科学部門(米国/パロアルト)を買収し、イオン銃、電子銃、LEED、RHEED、CMAの製造をスウェーデンのストックホルムに移管し、製品、スペアパーツ、サービスサポート等を提供する製造メーカーとして信頼性の高い非常に優れた機器を低価格でご提供しております。 【特⾧】 ■ 高電流密度イオンビーム：サンプル表面のスパッタ洗浄及び薄膜構造の迅速で正確な深さプロファイリングに最適です。 ■ スイッチャブルデュアルフィラメント：真空サイクル中でフィラメントがバーンアウトした場合、作業の進行を妨げることなく継続的な操作を可能にする切換式デュアルフィラメント構造になっています。
