イオンソースのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
イプロスは、 製造業 ・ BtoB における情報を集めた国内最大級の技術データベースサイトです。

イオンソース - 企業5社の製品一覧とランキング

更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

企業ランキング

更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

  1. 株式会社昭和真空 神奈川県/産業用機械
  2. フォンアルデンヌジャパン株式会社 東京都/その他製造
  3. アールエムテック株式会社 東京都/光学機器
  4. 4 エーエムアール株式会社 東京都/その他 本社・ラボセンター
  5. 4 テクノアルファ株式会社 東京都/電子部品・半導体
企業ランキングへ

製品ランキング

更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

  1. 高出力RFイオンソース 「ISG-180」 株式会社昭和真空
  2. リニアイオンソース『LION』 フォンアルデンヌジャパン株式会社
  3. カフマン　グリッドレス(エンドホール型)　イオンソース アールエムテック株式会社
  4. 大気圧イオンソース「SICRIT」 エーエムアール株式会社 本社・ラボセンター
  5. 4 カフマン　グリッドタイプ イオンソース アールエムテック株式会社

製品一覧

1～7 件を表示 ／ 全 7 件

表示件数
質量分析装置用イメージング質量分析イオンソース

質量分析装置用イメージング質量分析イオンソース

【換装なしでESIとMALDIが使用可能】従来の分析に加えイメージング質量分析を可能とする画期的なイオンソース

Spectroglyph社製MALDI/ESIインジェクターはサーモフィッシャーサイエンティフィック社製質量分析計に取り付けることにより、従来の分析に加え、イメージング質量分析を行うことのできる画期的なイオンソースです。 【特長】 ◆換装なしでESIとMALDIが使用可能 MALDIソースと直交するようにESIのイオンソースが接続されており、装置内のパラメーターの変更のみでESI/MALDIの変更が可能です。 ◆ユニークな内部構造 1.トランスレーションステージ 2.スライドガラスマウント 3.High pressure イオンファンネル 4.インレットキャピラリーハウジング 5.スライドバルブ 6.イオンファンネルトラップ 7.ビームエキスパンダー 8.CCDカメラ Injector内にデュアルイオンファンネルが内蔵されており、このことにより中性物質がMS内部に取り込まれることを防ぎ、結果サンプルのS/N比が向上します。またチャンバー内を減圧することにより（6-7torr）、サンプルのイオン化効率も上昇します。

  • spectroglyph_02.png
  • spectroglyph_03.png
  • spectroglyph_04.png
  • spectroglyph_05.png
  • spectroglyph_06.png
  • その他理化学機器

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録
高出力RFイオンソース 「ISG-180」

高出力RFイオンソース 「ISG-180」

広範囲で安定した放電を実現した高出力RFイオンソースです。

広範囲で安定した放電を可能にし、光学フィルターのノンシフト膜から樹脂基板への密着性改善まで様々な用途でご使用いただけます。 放電性能においては独自のアプローチにより確実な着火と安定した放電が可能です。 【特徴】 ○ビーム電流 1500mA / ビーム電圧 1500V / 　イオン電流密度100μA/cm2以上の高出力イオンソース ○イオン電流密度分布±10％以下（1300、1550装置にて）の均一性をハイパワーで達成 →Sapio-1300 での測定結果。株式会社昭和真空指定条件に限る ○ニュートラライザーにオートマッチャーを採用し、 　確実な着火性能と安定化を図った ○新開発コレクター電極（特許出願中）の採用により、 　エミッション電流2500mAの大出力を可能にした →チャージアップによるパーティクル発生を予防する 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • イオン注入装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録
カフマン　グリッドレス(エンドホール型)　イオンソース

カフマン　グリッドレス(エンドホール型)　イオンソース

カフマングリッドレスイオンソース一式

The compact low profi le eH series of broad beam ion sources are available in different sizes which covers both R&D and high yield production requirements. Large ion beam currents meet critical arrival ratios for high deposition rate processes. Low energy ions minimize ion bombardment damage to surfaces and interfaces. The broad divergent beam improves throughput by uniformly covering a wide deposition zone. 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 ※こちらのカタログは英語のカタログになります。

  • 蒸着装置
  • エッチング装置
  • プラズマ表面処理装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録
カフマン　グリッドタイプ イオンソース

カフマン　グリッドタイプ イオンソース

ＫＲＩグリッドイオンソースはDCタイプ、RFタイプがあります。

カフマン型グリッドイオンガン 　RFICPイオン源グリッドサイズ：4cm 10cm 14cm 22cm 36cm 　DCイオン源グリッドサイズ：1cm 4cm 8cm 10cm 16cm The versatile gridded series of broad beam ion sources are available in different sizes which covers both R&D and high yield production requirements. Large ion beam sources meet critical output performance for uniform coverage over wide process zones. 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 ※こちらのカタログは英語のカタログになります。

  • 蒸着装置
  • その他半導体製造装置
  • エッチング装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録
大気圧直接イオンソース『DART』

大気圧直接イオンソース『DART』

前処理なしでかざすだけ！瞬時に質量分析可能な大気圧直接イオンソースのご紹介

『DART』は、前処理なく質量分析ができる大気圧直接イオンソースです。 固・液・気体、サンプルの形状を問わずかざすだけ。 連続的に測定することで変化の瞬間をモニタリングできます。 さらに、前処理なく測定できるため溶解する必要がありません。 【特長】 ■固・液・気体、サンプルの形状を問わずかざすだけ ■リアルタイム分析なため変性する前に測定可能 ■前処理なく測定できるため溶解する必要がない ■APCIベースのソフトイオン化で塩の影響を受けにくい ■プロトン化分子、脱プロトン化分子が生成されやすい ■連続的に測定することで変化の瞬間をモニタリングできる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 二次イオン質量分析装置
  • 質量分析装置
  • 分析装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録
大気圧イオンソース「SICRIT」

大気圧イオンソース「SICRIT」

揮発性成分の高感度分析イオンソース LCMSに簡単接続、ppt感度の直接イオン源

Plasmion社が開発した「SICRIT」は大気圧質量分析は初となるフロースルーソフトイオン化技術を有したイオンソースユニットです。MSの試料導入部に直接取り付け、独自形状のコールドプラズマを使用して導入部へ引き込まれた分子をイオン化します。プラズマは導入部直前で生成するため、透過率ひいては感度が大幅に向上します。LCおよびGCと接続が可能です。 【特長】 ■堅牢で高感度。幅広く使えるイオンソース ■pptオーダーの高感度な分析が可能 ■各メーカーのLC-MSシステムへ簡単に取り付けられすぐに使用可能 ■LCやGCで使用。ダイレクトSPME-MSでppqオーダーの分析も ■サンプル前処理やイオン化調整は不要 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 大気分析 備品

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録
リニアイオンソース『LION』

リニアイオンソース『LION』

頑丈でスケーリング可能な設計！高エネルギーで強く集束されたビーム

『LION』は前処理と表面改質に適したコンポーネントです。 アルゴン処理で炭化水素を除去し、必要なら酸素追加が可能。イオンビームは 強く収束され、高エネルギー化しています。 物理的エッチングを必要とするインライン製膜システムに理想的なデバイスで、 シンプルで頑丈な設計のため、イオンソーズは容易にスケールアップ可能。 メインアプリケーションは、大面積ガラス製膜と金属箔製膜です。 【特長】 ■アルゴン処理で炭化水素を除去し、必要なら酸素追加が可能 ■仰角調節可能な外付けバージョン、フランジ取付けバージョン提供可能 ■頑丈でスケーリング可能な設計 ■高エネルギーで強く集束されたビーム ■様々な種類の基板材料の前処理 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 電子ビーム描画装置

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録
COPYRIGHT © 2001-2025 IPROS CORPORATION ALL RIGHTS RESERVED.