広範囲で安定した放電を実現した高出力RFイオンソースです。
広範囲で安定した放電を可能にし、光学フィルターのノンシフト膜から樹脂基板への密着性改善まで様々な用途でご使用いただけます。 放電性能においては独自のアプローチにより確実な着火と安定した放電が可能です。 【特徴】 ○ビーム電流 1500mA / ビーム電圧 1500V / イオン電流密度100μA/cm2以上の高出力イオンソース ○イオン電流密度分布±10％以下（1300、1550装置にて）の均一性をハイパワーで達成 →Sapio-1300 での測定結果。株式会社昭和真空指定条件に限る ○ニュートラライザーにオートマッチャーを採用し、 確実な着火性能と安定化を図った ○新開発コレクター電極（特許出願中）の採用により、 エミッション電流2500mAの大出力を可能にした →チャージアップによるパーティクル発生を予防する 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【RFイオンソース仕様と寸法】 ○グリッド径 Φ180mm 3枚構成、モリブデン製 ○BEAM v 100～1500V ○BEAM ｉ 100～1500mA ○ACC v 100～1000V ○RF POWER 1000W ○GAS FLOW 30～100sccm 【RF NEUTRALIZER仕様と寸法】 ○EMISSION 2500A ○RF POWER 200W ○GAS FLOW Ar5～20sccm ○外形寸法 Φ80×275H（mm） ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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用途／実績例
光学膜 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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企業情報
株式会社昭和真空は、真空中で特定の基板に薄膜を形成させる装置を主とした、真空蒸着装置やスパッタリング装置等の真空技術応用装置（真空装置）を製造販売しております。
