ＫＲＩグリッドイオンソースはDCタイプ、RFタイプがあります。
カフマン型グリッドイオンガン RFICPイオン源グリッドサイズ：4cm, 10cm, 14cm, 22cm, 36cm DCイオン源グリッドサイズ：1cm, 4cm, 8cm, 10cm, 16cm The versatile gridded series of broad beam ion sources are available in different sizes which covers both R&D and high yield production requirements. Large ion beam sources meet critical output performance for uniform coverage over wide process zones. 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 ※こちらのカタログは英語のカタログになります。
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【特長】 ○OptiBeamTM self-aligning optics ○Controlled neutralization ○Plasma discharge ○Modular architecture ○Inert, reactive and organic gases ○Collimated, divergent, and convergent beams ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 ※こちらのカタログは英語のカタログになります。
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企業情報
当社は1988年に真空薄膜製造装置の海外輸出商社としてスタートし、今日まで「真空技術のトータルプランナー」として、業容を拡大してまいりました。 この間、光学薄膜材料への展開、さらにはイオンビームプロセスや冷凍機(サップコールド)の販売に力点を置き活動をしてまいりました。 また、新たに次世代のナノ加工分野の重要な技術として期待されている、GCIB（ガスクラスターイオンビーム）プロセス装置を開発し、市場に投入する事になりました。 眼鏡やカメラレンズからスタートして、いまではデジタルカメラや携帯電話、医療用レンズを始め、光関連産業では新しい媒体が続々と生まれています。