カフマングリッドレスイオンソース一式
The compact low profi le eH series of broad beam ion sources are available in different sizes which covers both R&D and high yield production requirements. Large ion beam currents meet critical arrival ratios for high deposition rate processes. Low energy ions minimize ion bombardment damage to surfaces and interfaces. The broad divergent beam improves throughput by uniformly covering a wide deposition zone. 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 ※こちらのカタログは英語のカタログになります。
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基本情報
【特長】 ○Removable anode module for bench-top maintenance ○Self aligning anode module for simple reinstallation ○Double contoured anode for optimized plasma discharge ○Thermally decoupled magnet system ○Enhanced gas distribution for effi cient gas management ○Shielded insulators for lower maintenance ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 ※こちらのカタログは英語のカタログになります。
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企業情報
当社は1988年に真空薄膜製造装置の海外輸出商社としてスタートし、今日まで「真空技術のトータルプランナー」として、業容を拡大してまいりました。 この間、光学薄膜材料への展開、さらにはイオンビームプロセスや冷凍機(サップコールド)の販売に力点を置き活動をしてまいりました。 また、新たに次世代のナノ加工分野の重要な技術として期待されている、GCIB（ガスクラスターイオンビーム）プロセス装置を開発し、市場に投入する事になりました。 眼鏡やカメラレンズからスタートして、いまではデジタルカメラや携帯電話、医療用レンズを始め、光関連産業では新しい媒体が続々と生まれています。
