更新日： 集計期間:2025年09月24日～2025年10月21日
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職場や工場スタッフの配置・シフト・生産順序の最適化、作業のボトルネックの見える化・改善！【無料体験セミナー動画公開中】
生産ラインや物流システム、施設等のモノ/人の動きや、プロセスの検討のために開発されたシミュレータです。Witness上にシステムを再現することで、定式化できない複雑なシステムを定量化することができます。また、時間ごとのモデルの状況や状態の変化、要素の相互干渉などを解析するすることでシステムの最適化を図ることも可能です。 お問合せはこちらまで: witsales@ctc-g.co.jp
１Dモデル・２Dモデルを使った二次電池のシミュレーションにより、最適なシステムの開発と開発期間の短縮が可能になります。
「gPROMS」をベースとした、二次電池の開発・システムシミュレーションの詳細のご説明。鉛蓄電池モデリングのケーススタディをご覧頂けます。 鉛蓄電池のライブラリがあります。リチウムイオン電池に関しては、カスタムモデリングで対応致します。 １Dモデル・２Dモデルを組み合わせた検証により、より正確なデータを算出し、各バッテリー部で発生する物理的・化学的現象を総合的に考慮することが可能となります。バッテリ動作の問題診断も対応可能です。 ＜１Dモデル＞ 成分の質量バランス 電解質と固相電位 - オームの法則と集中定数理論 電荷の保存（電気的中性） 電極/電解質界面における電気二重層 空隙率の変化および電極の表面領域の損失 電気化学反応 - Butler-Volmer 方程式 境界条件のシステムを介して接続されたサブモデル バッテリの容量損失 ＜２Dモデル＞ 電流、電位および成分濃度の2Dプロファイル より高度なアプローチで表されるイオンの移動：Maxwell-Stefan-Plank拡散
図面比較や工具長最適化も可能なNCシミュレーション。 国内開発ならではの機能と迅速なサポートで機械加工の動作検証＋作業効率化
『NCVIEW MC3』は、工作機械のNCプログラム加工を再現し、 事故防止や生産性UPに役立つシミュレーションソフトです。 3軸マシニングセンタ加工に特化し、 便利な機能をパッケージしたハイコストパフォーマンスな製品です。 標準で工具形状、工具軌跡、ワークの切削形状を確認できます。 本体（基本モジュール）にオプションを追加して機能を拡張できます。 Tスロット工具によるアンダーカット切削、段取り替え加工シミュレーションにも対応します。 工具・ホルダ干渉チェックやマクロデバッガ、モデル比較など、 便利な機能を標準搭載しているソフトです。 【導入効果】 ■事故のない安全な加工の実現 ■機械・工具・素材の損耗低減 ■ドライラン不要で機械稼働率向上 ■品質向上、作業効率向上 ■安全なトレーニング ■国産ソフトならではの的確なサポート ※詳しくはPDFダウンロードまたはお問い合わせくださいませ。
デジタルツイン XR開発筐体 / ドライビングシミュレーター
自動車メーカー/大学への納品実績多数！ 体感シムならWIZMO！ 精密動作を必要とする研究開発やトレーニング目的に製作された6軸ドライビングシミュレーターです。 電動アクチュエータの瞬発力とパワーに加え自社開発した専用基板による低遅延で実車に近いG体感を再現。 【設計】 ・基盤から独自設計50ms以下の低遅延 ・家庭用電源100Vで工事不要 ・実車の椅子へのカスタマイズが可能 ・アセットコルサなど市販ソフト対応済 【開発性】 ・ゲームエンジンに対応した開発環境用意 ・創業以来の体感ノウハウを詰めたツール群 ・映像連動、波形データ解析、姿勢制御等
gPROMS ソフトウェアが用途別のパッケージ製品となりました。
従来、必要なライセンスのみでご利用いたただいていたgPROMSですが、パッケージ化され、多岐の用途でご利用頂けることとなりました。多くの検討にご利用頂けます。
ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算
当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。 希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、 有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションに活躍。 お客様のニーズに合わせた対応も可能です。 【ラインナップ】 《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》 ■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応 ■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能 《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》 ■低圧のプラズマシミュレーションが可能 ■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに この2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、 プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能です。 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
「シャワーヘッド型CVD」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』
シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析もしておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。
「コンタミネーションに影響するダスト挙動」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』
「コンタミネーションに影響するダスト挙動」のシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※受託解析も行っておりますので、お気軽にお問い合わせ下さい。
【製薬・食品にも】製造プロセスを見える化！原薬製造や製剤工程の、品質向上や生産コストの見直しに。 ※デモテスト実施中
米国メガファーマとの共同で開発したモデリングツールです。 最近では製薬業界において、バッチから連続生産へ移行されつつあり、 プロセスの設計や制御システムの検討などに使われています。 gPROMS FormulatedProductsのモデルライブラリです。 連続生産プロセスでは高度な品質管理（PAT、QbD、RTRT)、 少量多品種生産への対応が可能になりますが、同時に高精度なプロセスモデリング技術が不可欠となります。 『プラントの建設費を削減したい』『既存プラントでの生産量をあげたい』 『製品品質（粒度分布）を向上させたい』など、お気軽にお問い合わせください！ YouTubeにて動画がご覧いただけます https://youtu.be/AJZcgI-r2Ik
初期形状はトレンチ、ホールで与えることが可能！基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュール
『表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM3D）』は、 粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、 基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。 セル法特有のシャープな境界面は用いず、固体層占有率による勾配から 入射角を決定し、入射角依存の鏡面反射確率、反応確率に適用。 PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能です。 【特長】 ■粒子モンテカルロ法を用い、セル法により固体層占有率、表面被覆率を 考慮し形状を表現 ■ガス種、反応式、錯体、そしてポリマーなどの数に制限はない ■3次元直交メッシュで定義されるが、初期形状はトレンチ、ホールで 与えることが可能 ■入射粒子情報はPEGASUS気相モジュール、PEGASUS表面科学系モジュールからの 出力を使用するか、もしくは当製品が備えている入力方法で使用者が指定 ■反応式は使用者が定義し、鏡面反射確率、反応確率は入射角度および 入射エネルギーに依存する関数を使用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空排気シミュレーションなど 低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト
【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空排気シミュレーションなど 低圧条件のガス流れの解析ができる 希薄気体(希薄流体)にも対応した解析ソフト
【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られる ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり，品質の悪い計算格子が有っても，必ず収束解を得られる ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが始めての方や実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション ・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーション などの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI 上で，複数の反応式を設定も可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
設備資産のパフォーマンス改善！メンテナンス戦略策定・予備品戦略策定と最適化
Availability Workbench AvSimモジュールは、予備品の保有量により 設備のライフサイクルコストに及ぼす影響をシミュレーション することができます。 また、設備の稼働率やパフォーマンスについても シミュレーションすることが可能。 スペアパーツの依存関係をモデル化し、在庫レベルの最適化を実現します。 【特長】 ■設備の稼働率、パフォーマンスの計算が可能 ■さまざまな業界の設備管理、故障解析を熟知した専門家が支援 ■ツールによるプロジェクト一括管理 ■直感的なユーザインターフェース ■他のモジュールとの連携可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
