マスクアライナー
セミカスタムで最適なシステム構成にできます
汎用マスクアライナーES20シリーズ以外にウェハ両面同時露光タイプや裏面観察式マスクアライナーなど各種ラインアップしております。 フォトリソグラフィ関連装置およびMEMS研究開発支援装置など、お客様の仕様に合わせたカスタム装置開発製作も承っております。
マスクアライナ - メーカー・企業7社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2026年01月07日～2026年02月03日
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マスクアライナのメーカー・企業ランキング
更新日： 集計期間:2026年01月07日～2026年02月03日
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- 株式会社ナノテック 東京都/試験・分析・測定
- 兼松ＰＷＳ株式会社 神奈川県/産業用機械
- 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ 埼玉県/電子部品・半導体
- 4 株式会社三明 静岡県/産業用電気機器
- 5 ウシオライティング株式会社 東京都/産業用機械
マスクアライナの製品ランキング
更新日： 集計期間:2026年01月07日～2026年02月03日
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- SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4 兼松ＰＷＳ株式会社
- SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4 兼松ＰＷＳ株式会社
- 三明MEMS【露光装置/マスクアライナー/ローコスト（低価格）】 株式会社三明
- 高性能マスクアライナー LAシリーズ 株式会社ナノテック
- 4 UV-LED光源！半導体製造用自動露光装置|マスクアライナー 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
マスクアライナの製品一覧
16～19 件を表示 ／ 全 19 件
表示件数
SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4
最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光装置
ズースマイクロテック MA/BA GEN4 は最大８インチ角基板まで対応可能なセミオートアライメント対応の露光機です。MEMS、光学部品の製造、化合物半導体などのR&D、少量生産用途に対して最適な装備を備えています。最適化されたアライメントマーク観察光学系と画像処理機能によりバラツキの少ないアライメントが行えます。
- 企業：兼松ＰＷＳ株式会社
- 価格：応相談
【調査資料】リソグラフィー装置の世界市場
リソグラフィー装置の世界市場：マスクアライナ、レーザーダイレクトイメージング、プロジェクション、レーザーアブレーション、 ...
本調査レポート（Global Lithography Equipment Market）は、リソグラフィー装置のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界のリソグラフィー装置市場概要、主要企業の動向（売上、販売価格、市場シェア）、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 リソグラフィー装置市場の種類別（By Type）のセグメントは、マスクアライナ、レーザーダイレクトイメージング、プロジェクション、レーザーアブレーションを対象にしており、用途別（By Application）のセグメントは、MEMSデバイス、高度パッケージング、LEDデバイスを対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、リソグラフィー装置の市場規模を算出しました。 主要企業のリソグラフィー装置市場シェア、製品・事業概要、販売実績なども掲載しています。
- 企業：株式会社マーケットリサーチセンター
- 価格：応相談
実験・研究用マスクアライナー『ES410』
ローコストでフォトリソグラフイに必要な機能を完備！マスクアライナー
『実験・研究用マスクアライナー『ES410』は、ローコストながら フォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナーです。 ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性を備え、各種ユニットや オプションを選択することで、さらに目的にフィットした装置に セットアップ可能です。 また、ほとんどのユニットが後から追加・変更できるので、 将来のグレードアップにも対応致します。 フルマニュアル機なので各種実験、研究、フォトリソグラフイの学習などに ご使用いただけます。 【特長】 ■ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性 ■各種ユニットやオプションを選択可能 ■目的にフィットした装置にセットアップ可能 ■ほとんどのユニットが後から追加・変更可能 ■将来のグレードアップにも対応 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社ナノテック
- 価格：応相談
