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【ロングストローク】エンコーダを内蔵した高分解能・高い位置再現性・高い位置保持性を持った位置決めステージ
光学式リニアエンコーダをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 『 50nm 』又は『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 150mm 』となっております。 ストロークが長いため試料の移動と精密位置決めをこれ１台で行うことができます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411又はFC-111との組み合わせ
【精密位置決め装置】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 50nm 』または『 100nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-414またはFC-114との組み合わせ
[真空対応]1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っており、大気用と同等の特徴を備えています。
10nm分解能で位置決め！再現性に優れ、20～200mmストロークのステージ
■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーにより10nm分解能でステージを動作させ、ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、高分解能で再現性に優れています。 ■長ストローク 最大200mmの可動ができます。 これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。 ■制御 コントローラには通信インターフェースがいくつか用意されており、コマンド文字列をPC等から入力することでステージを制御することができます。 ■可動タイプ 直動だけでなく昇降タイプや微小回転もラインナップしております。 詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
真空中で使用可能！リニアエンコーダ内蔵でサブミクロン分解能のZ軸用位置決めステージ！
光学式リニアスケールを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 50nm 』(*1)又は『 100nm 』(*2)分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-411との組み合わせ (*2)フィードバックステージコントローラFC-111との組み合わせ
サブミクロン分解能で位置決め！エンコーダ内蔵で再現性に優れ、20～400mmストロークのステージ
■高分解能、再現性 コントローラ内蔵のモータードライバーによりサブミクロン分解能でステージを動作させ、 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダで位置を読み取りフィードバック制御しているため、 高分解能で再現性に優れています。 ステージコントローラにより、100nm（0.1μm）か50nm（0.05μm）分解能で動作します。 ■長ストローク 最大400mmの可動ができます。 これにより精密位置決めと試料の退避が1台のステージで可能です。 ■制御 コントローラには通信インターフェースがいくつか用意されており、 コマンド文字列をPC等から入力することでステージを制御することができます。 ■可動タイプ 直動だけでなく昇降タイプや微小回転もラインナップしております。 詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
【新型ステージコントローラ】とリニアエンコーダを内蔵した【フィードバックステージ】で高分解能に位置決めができる。
[新型フィードバックステージコントローラの特長] 従来品との互換性を残しつつ、 ・通信コマンド数の増加 ・ティーチング機能追加 ・USBインターフェース追加 ・パラメータ数増加 などの追加により。多機能になりフィードバックステージの状態把握や細かなパラメータを設定することができます。 [高分解能位置決め装置の特長] フィードバックステージと新型フィードバックステージコントローラで構成されています。 フィードバックステージ内蔵のリニアエンコーダで検出する位置情報をもとにフィードバック制御するため高分解能かつ高い再現性が得られます。 [導入メリット] ・高い位置決め再現性による作業効率の向上 ・高分解能動作による微調整が可能 ・長い可動範囲による、試料の移動と微調整が1つのフィードバックステージで可能 詳しくはお問い合わせまたはカタログをダウンロードください。 □ステージ選定に役立つQ&A集を下記のリンクから無料ダウンロードできます。□
リニアスケールフィードバックで高分解能・高再現性・高保持性を実現したステージ！百mmオーダーのストローク！
シグマテックが設計・製造・販売を行っている、大気用高分解能位置決め装置及び真空対応高分解能位置決め装置 （フィードバックステージシステム）の総合カタログ。 フィードバックス テージ ・ フィードバックステージコントローラ及びケーブル、オプションについての仕様・構成・価格などを網羅。 位置決めの事なら何でもご相談ください。 ■大気用システム特徴・説明 リニアスケールを内蔵した小型位置決め装置を開発・製造・販売しております。 ナノテクノロジーという言葉が生まれる前よりナノの位置決めを実現しておりました。そのノウハウを元にお客様のニーズに応えます。 ■真空対応システム特徴・説明 創業以来特注対応にて得た真空対応に対するノウハウを元に真空用途で高分解能及び高精度な再現性を御提供致します。 詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
リニアエンコーダでナノメートル分解能・高再現性・高保持性を実現したステージ！百mmオーダーのストローク！
シグマテックが設計・製造・販売を行っている、大気用高分解能位置決め装置及び真空対応高分解能位置決め装置 （フィードバックステージシステム）の総合カタログ。 フィードバックステージ ・ フィードバックステージコントローラ及びケーブル、オプションについての仕様・構成・価格などを網羅。 位置決めの事なら何でもご相談ください。 ■大気用システム特徴・説明 リニアスケールを内蔵した小型位置決め装置を開発・製造・販売しております。半導体関連の装置、通信関連、先端研究の光学系などで使用されており、そのノウハウを元にお客様のニーズに応えます。 ■真空対応システム特徴・説明 創業以来特注対応にて得た真空対応に対するノウハウを元に真空用途で高分解能及び高精度な再現性を御提供致します。 詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
リニアエンコーダでナノメートル分解能・高再現性・高保持性を実現！特注製作もOK
当社が設計・製造・販売を行っている、大気用高分解能位置決め装置および 真空対応高分解能位置決め装置(フィードバックステージシステム)の総合カタログです。 フィードバックステージ・フィードバックステージコントローラ、 ケーブル、オプションについての仕様・構成・価格などを網羅。 特注品・カスタム品の製作も承っております。お気軽にご相談ください。 【大気用システムの特徴】 リニアスケールを内蔵した小型位置決め装置を開発・製造・販売しております。 半導体関連の装置、通信関連、先端研究の光学系などで使用されています。 【真空対応システムの特徴】 創業以来、特注品の製作で得た真空対応に対するノウハウを元に 真空用途で高分解能及び高精度な再現性をご提供致します。 ※「PDFダウンロード」より総合カタログをご覧いただけます。 ご要望などお問い合わせフォームよりお気軽にご連絡ください。 また、下記リンクではカスタム品の製作例を紹介しております。
