エッチング装置 ウエハ洗浄装置
【デモ機貸し出し可能！】処理槽からリンス槽へ円弧搬送しウエハーを処理する半自動装置
本機は手動でカセットの入ったバスケットをハンガーに取付、処理槽からリンス槽へ円弧搬送しウエハーを処理する半自動装置になります。 詳しくはお問い合わせ下さい。
- 企業：ジャパンクリエイト株式会社
- 価格：応相談
ウェハ洗浄機(搬送) - 企業4社の製品一覧
製品一覧
1～8 件を表示 ／ 全 8 件
表示件数
ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ ： シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 ：φ2”～φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
- 価格：応相談
ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ ： シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 ：φ2”～φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
- 価格：応相談
ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ ： シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 ：φ2”～φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
- 価格：応相談
洗浄装置 太陽電池 シリコンウエハー洗浄装置
精密な部品を洗浄するのに最適。
太陽電池に使用されるシリコンウエハーの洗浄ラインです。 完全オーダー品だからこそ、細かなニーズにお応えできます。 【特徴】 ○『粗洗浄装置』と『仕上洗浄装置』に分けて洗浄。（写真は粗洗浄装置） ○粗洗浄装置１台で、洗浄・治具分離・リンスの工程を全て行います。 ○仕上洗浄装置１台で、洗浄・リンス・乾燥の工程を全て行います。 ○シリコンウエハーを痛めない精密搬送。 ○鉱物性切削油、水溶性切削油、共に専用製作可能。（粗洗浄装置） ○自動消火装置の搭載 及び 防爆構造が可能。 ●詳しくはお問合せください。
- 企業：特機工業株式会社
- 価格：応相談
ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ ： シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 ：φ2”～φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社テクニカルフィット
- 価格：応相談
ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ ： シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 ：φ2”～φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社テクニカルフィット
- 価格：応相談
ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ ： シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 ：φ2”～φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社テクニカルフィット
- 価格：応相談
