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透明性低下の防止＋【帯電防止＋防汚＋撥水・撥油】をガラスに付与。フッ素系透明帯電防止コーティングの新スタンダード。
『セーフロンCC+』CCC1-F100は、ガラス基材の透明性を損なわず帯電防止性能を付与できる、 吉田SKT独自開発のフッ素系透明帯電防止コーティングです。 従来、帯電防止には導電性充填材の添加が必要でコーティング膜の着色・透明性低下が避けられませんでした。 本製品はその課題を解決し、未加工のガラス透過92％（550nm）に対し、コーティング後の透過率85%（550nm）の 透明性を維持しながら表面抵抗率10^5〜10^7Ω/sqの帯電防止性能を実現。 ・防汚性（耐マジック汚染評価○） ・撥水撥油性（水の接触角105-115°） ・鉛筆硬度：9H以上 ・加工温度：260〜300℃ ・ガラスへの加工に適しています。 詳しくはURLをクリックしてご確認ください。
1μｍ以下の膜厚。ナノレベルの薄膜を基材に形成するコーティングプロセス
超薄膜表面処理『ナノプロセス』はナノレベルから１μｍ程度の薄い膜でコーティングし、 撥水性、撥油性、非粘着性、液滑落性などを向上させます。 寸法変化をほとんど起こさず、光学特性を維持できることから、 これまでフッ素樹脂コーティングが難しかった 『精密部品』や『高い寸法・表面精度を必要とする分野』での加工が可能となっております。 〈対応可能な高い表面精度を必要とする業界例〉 半導体 自動車 電池 電子部品 医療機器 etc また、ナノプロセスは4つの新しい機能でリニューアルを行っており、 それぞれで特長・用途が異なります。 現在、全シリーズの特徴や機能をおまとめした技術資料を配布しております。 詳細が気になる方、精密分野で表面処理にお困りの方は、資料をダウンロードをいただくか、弊社まで直接ご連絡ください。
帯電防止性・耐熱性・耐薬品性・化学的不活性な特性のコーティングが半導体製造装置や電子部品製造装置に数多く採用されています。
■メッキ冶具、はんだ治具、半導体製造ラインなどの用途 ・選ばれている表面処理 『テフロン（TM)フッ素樹脂コーティング』 ■精密金型などの用途 ・選ばれている表面処理 『バイコート(R)』 『ナノプロセス(R)』 ■ウェハー・ガラス用ハンドなどの用途 ・選ばれている表面処理 『セーフロン(R)』 『PBI、PIコーティング』 ■精密ノズル、MEMS部品、光学レンズなどの用途 ・選ばれている表面処理 『ナノプロセス(R)』 ■薬液供給タンクなどの用途 ・選ばれている表面処理 『テフロン（TM)フッ素樹脂コーティング』 『セーフロン(R)AP+』 『MYライニング(R)』 ■クリーンルーム内壁、実験設備、各種治工具などの用途 ・選ばれている表面処理 『セラシールドF』 ■高温設備部材（ロール、ヒーターカバー）などの用途 ・選ばれている表面処理 『SGNコーティング』 ※ご紹介の表面処理製品PDFをダウンロード頂けます。 製品の詳しい内容は「吉田SKT公式サイト」をご覧ください
１μm以下のナノレベルの薄膜で撥水性、撥油性、離型性、非粘着性を実現。諦めていた治具や金型や設備がナノプロセスで改善されます。
ナノプロセスは機能性材料を1μm以下のナノレベルの薄膜で 基材に形成させるコーティングプロセスです。 撥水性、撥油性・非粘着性・液滑落性などを向上させます。 寸法変化をほとんど起こさず、光学特性を維持できることから、 これまでフッ素樹脂コーティングが難しかった『精密部品』や、 『高い寸法・表面精度を必要とする分野』での加工が可能となっております。 〈対応可能な高い表面精度を必要とする業界例〉 半導体 自動車 電池 電子部品 医療機器 etc 【各シリーズの特長】 ■TC-10S 100nmの精密性・可視光線透過率・撥水性・撥油性に優れる ■TLSシリーズ ガムテープの様な粘着物の非粘着性に優れる ■NCFPCシリーズ 水・油の液滑落性に優れる ■HPシリーズ 親水性に優れる 現在、全シリーズの特徴や機能をおまとめした技術資料を配布しております。 詳細が気になる方、精密分野で表面処理にお困りの方は 資料をダウンロードをいただくか、弊社まで直接ご連絡ください。
半導体製造や電子部品製造で選ばれる表面処理技術をご紹介します。
■メッキ冶具、はんだ治具、半導体製造ラインなどの用途 ・選ばれている表面処理 『テフロン（TM)フッ素樹脂コーティング』 ■精密金型などの用途 ・選ばれている表面処理 『バイコート(R)』 『ナノプロセス(R)』 ■ウェハー・ガラス用ハンドなどの用途 ・選ばれている表面処理 『セーフロン(R)』 『PBI、PIコーティング』 ■精密ノズル、MEMS部品、光学レンズなどの用途 ・選ばれている表面処理 『ナノプロセス(R)』 ■薬液供給タンクなどの用途 ・選ばれている表面処理 『テフロン（TM)フッ素樹脂コーティング』 『セーフロン(R)AP+』 『MYライニング(R)』 ■クリーンルーム内壁、実験設備、各種治工具などの用途 ・選ばれている表面処理 『セラシールドF』 ※ご紹介の表面処理製品PDFをダウンロード頂けます。 資料をダウンロード頂き詳細はお問い合わせください。
半導体製造装置では、化学的不活性な特性・帯電防止性・耐熱性・耐薬品性に優れる表面処理が数多く採用されています。
■半導体製造ラインなどの用途 ・選ばれている表面処理 『テフロン（TM)フッ素樹脂コーティング』 ■ウェハー・ガラス用ハンドなどの用途 ・選ばれている表面処理 『セーフロン(R)』 『PBI、PIコーティング』 ■精密ノズル、MEMS部品、光学レンズなどの用途 ・選ばれている表面処理 『ナノプロセス(R)』 ■薬液供給タンクなどの用途 ・選ばれている表面処理 『テフロン（TM)フッ素樹脂コーティング』 『セーフロン(R)AP+』 『MYライニング(R)』 ■クリーンルーム内壁、実験設備、各種治工具などの用途 ・選ばれている表面処理 『セラシールドF』 ■高温設備部材（ロール、ヒーターカバー）などの用途 ・選ばれている表面処理 『SGNコーティング』 ※ご紹介の表面処理製品PDFをダウンロード頂けます。 製品の詳しい内容は「吉田SKT公式サイト」をご覧ください
半導体製造プロセスとは？半導体製造装置で採用される表面処理を紹介します。
半導体製造プロセスとは、 設計から半導体デバイスを作り出し出荷するための一連の工程のことです。 半導体デバイスは、コンピュータ、スマートフォン、車載電子機器、LEDなど、 現代の様々な電子機器に利用される不可欠な部品です。 半導体製造プロセスは、高純度な精密性の高い技術を要するため、 多くの場合自動化されたクリーンルームで行われます。 1．設計→フォトマスクの製作 論理回路設計・レイアウト設計・フォトマスク製作 2．前工程（ウエハー加工） シリコンウェハーの調達→洗浄→成膜→フォトリングラフィー→イオン注入→配線→検査 3．後工程（組み立て） ダイシング→ダイボンディング→ワイヤボンディング→封入→ハンダボール搭載→分離→捺印→検査→梱包・出荷 半導体製造プロセスにおいて、 特に前工程ではナノレベルの精密性を必要とするため 高い純粋性や精密性が求められます。 フッ素樹脂コーティングを始めてとする表面処理は、 半導体製造を支え、日本が得意とする半導体製造装置の 一翼を担っています。 以下では半導体製造で欠かせない表面処理についてご紹介します。
