更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
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赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合わせて製作致します。
「IR-FP Series」は、Max1100℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。 各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。 クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。 樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。 試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
優れた温度精度・省スペース、インライン対応の加熱炉です 各項目のトレサビリティ対応が可能で、高い省エネ性を有します
スタック式加熱炉「MSS series」は輻射加熱方式を採用しているため、外乱の影響を受けにくく、非常に高い均熱性を実現します。 ワーク１セットを１炉室に投入加熱し、トレサビリティを可能にします。 前後装置とのインライン化に対応し、工場内の省人化に貢献します。 静止加熱により粉塵や揺れを抑制し、製品品質を向上させます。 加熱部を縦に配置する事により省スペース化を実現しました。 【特長】 ○優れた温度性能 ○トレサビリティ ○インライン対応 ○クリーン加熱 ○省スペース 〇省エネ 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
独自の加熱方式により大幅な電力削減が可能です【硬化・乾燥・予備加熱に好適！】※実験、評価などデモ実施も可能
『HAS-1016』は、最小クラスの1ゾーン方式搬送型加熱炉です。 乾燥・硬化・リフロー前の予備過熱など多用途での対応が可能。 恒温槽から入れ替えることにより自動化・省人化・安定化を実現しました。 また、様々な加熱用途に対応でき、実験・評価・研究開発にも適しています。 【特長】 ■乾燥・硬化・リフロー前の予備加熱に好適な1ゾーン加熱炉 ■恒温槽から入れ替えることにより自動化・省人化・安定化を実現 ■独自の加熱方式により大幅な電力削減が可能 ■様々な加熱用途に対応できるので実験・研究開発にも好適 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
品質の向上！省力化！一般的な遠赤外線加熱炉の特徴についてご紹介
有限会社AMKは、工業用遠赤外線ヒーターと加熱装置・乾燥装置を取り扱っている会社です。 遠赤外線ヒーターを配置した面に平行に被加熱物を連続的に搬送させ加熱することが一般的な遠赤外線加熱炉であります。 これにより加熱処理時間の短縮、品質の向上、工程合理化、省力化ができるのが大きな特徴です。 そのため、熱風炉から連続式遠赤外線炉への転換が進んできたことは知られていることです。 ただし光と同じ作用であることから、陰になる所、立体形状でヒーターからの距離が部位により異なる場合、ファンを併用しても均一加熱は難しいことが多いのです。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
メッシュコンベアで搬送！加熱！ インバータ可変速で簡単制御！
メリット ● 丈夫な構造 ● 納期が短い ● 取り付け簡単 ● メンテし易い ● 静かな運転音 ● モジュラーデザイン ● 一般環境に適用 ● ベルトに多様な選択で様々な産業に対応可能
シーラス鍛造加熱炉
シーラス放射バーナーを採用し 被加熱材の製品品質の改善に貢献する、高効率の鍛造加熱炉 【特徴】 ○天井部分にシーラス放射状バーナーを取付け ○炉壁にはセラミックファイバーを、炉上部には熱交換器を設けて 熱回収を行うため、高効率 ○材料の形状、寸法、加熱容量等に応じ最適の各種炉形を 設計・製作・納入 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
Max1000℃！石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱が可能です
株式会社和泉テックで取り扱う『真空(ガス置換)加熱炉』をご紹介します。 ガスはO2に加えてArも使用可能。 試料を早く冷却するため炉体は可動式です。 石英管外熱式加熱炉で真空加熱及びガス置換加熱ができます 【仕様】 ■排気系 RP + TMP/到達真空5 x 10^-5Pa ■ガスはO2に加えてArも使用可能 ■Max 1000℃ ■石英管内経φ76 ■試料を早く冷却するため炉体は可動式 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
炉内を均一に加熱し、製品に対し温度ムラが最小限な加熱構造です。
発熱体は東立独自のシーズヒーターを使用しているので、 安全・長寿命・エコロジーです。 被加熱体からの放熱を完全保温し放熱ロスを防ぎます。 熱効率がよく経済的です。 自動温度調節器のダイヤルを使用温度にセットするだけで簡単に 所要温度が得られます。 蓄積したノウハウにより特殊仕様、材質など、 お客様のご要望に柔軟に対応いたします。 その他詳細は、お問い合わせください。
半導体製造工程などで使用する高純度ガスボンベ内に付着している不純物を除去する装置です。
ボンベの内壁に付着している不純物を加熱真空引きにより取り除きます ボンベサイズ、同時処理本数はカスタマイズにて対応します 自動機、手動機など予算に合わせご提案します 【特長】 ■ボンベの均一な加熱が可能です（Max200℃）。炉内温度±約1％ 。 ■ボンベ加熱と同時にボンベの安全弁への冷却も可能です（熱による安全弁の破損防止の為） ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください
タッチパネル操作方式を採用！各種研究開発・試作向けの遠赤外線加熱装置です
『MIGHTY STAR F1200』は、専用に開発されたタッチパネル ソフトウェアにより、作業効率及び管理に優れた環境を実現する 簡易型の遠赤外線加熱炉です。 セラミック溶射された遠赤外線シースヒーターにより、 樹脂フィルムなどの高分子化合物を効率的に加熱。 また、ワークの幅方向の制御にサイドヒーターを配置し 左右ムラを最小限に抑制します。 【特長】 ■ヒーター ・ご希望により近赤外線ヒーター等の組み込みも可能 ■コンベア（チェーン）搬送 ・タッチパネル上で数値制御 ・短い炉長においても加熱時間を常に正確に把握することが可能 ■タッチパネル操作 ・操作項目及び制御項目の変更、追加にもソフトウェア上で柔軟に対応 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
各加熱材に対応した設備を提供致します。
鍛造用 加熱炉は天井バーナ、側面バーナを用途により使い分け、優れた温度分布性能を発揮、台車型、固定型、ベル型等、各加熱材に対応した設備を提供致します。 高度な計装による省エネ化、酸化スケールの自動払出装置による作業改善を実現します。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧下さい。
二珪化モリブデンヒータを採用！常用1800℃まで昇温可能な縦型抵抗加熱炉
『T11-18VR』は、アルミナチューブ内を不活性ガス又は酸化大気雰囲気で、 高温に加熱し、試料を合成するための抵抗加熱装置です。 縦型抵抗加熱方式を採用する事で、チューブ内への大気巻込みを極力低減し、 装置占有面積も小さくする事が可能となりました。 また、二珪化モリブデンヒータを採用しており、常用1800℃（最大1830℃）まで 昇温可能です。 【特長】 ■縦型抵抗加熱方式を採用する事で、装置占有面積も小さくする事が可能 ■二珪化モリブデンヒータを採用しており、常用1800℃（最大1830℃）まで昇温可能 ■坩堝昇降軸の動作を精動作から粗動作までシームレスな動作が可能 ■坩堝昇降機構を装備しているため、より安全かつ容易に坩堝の脱着が行える ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで加熱できる電気炉
株式会社和泉テックで取り扱う『磁場中加熱炉』をご紹介します。 炉内寸法φ50石英管。 サンプルサイズは12mm口 x 縦配列5枚です。 従来では不可能だった電磁石ギャップ80mmの狭い空間で800℃まで 加熱できます。 【仕様】 ■炉内寸法φ50石英管 ■サンプルサイズ12mm口 x 縦配列5枚 ■10^-5Pa (PR. 分子ポンプ） ■Minギャップ80mmまで可能 ■MAX 800℃ ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
薄型基板・高機能フィルムの加熱処理に最適な遠赤外線ロール加熱炉
（特長） ●遠赤外線の持つ浸透力により、加熱時間の短縮・品質の向上が出来ます。 ●熱風循環機構を必要とせず、炉体は三次元方向に小さく出来ます。 ●高精度な温度分布が可能。幅方向±２℃を達成しました。 ●炉内はＮ２雰囲気が可能。給排気をしながら酸素濃度１００ｐｐｍ以下を達成しました。 （分野） フレキ基板、燃料電池、太陽電池、タッチパネル、ＨＤＤ材料、など。 （適用範囲） 使用温度：ＭＡＸ４００℃ 機材幅：ＭＡＸ１１００ｍｍ 炉内クリーン度：クラス１０００対応 炉長は、ご相談に応じます。 （その他） ■巻取・巻出機も取り扱っています。 ■テスト機を保有していますので、テスト検証が可能です。 ■価格・納期はお問合せ下さい。
