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自動欠陥検査機能、低ノイズ、高スループット！正確な原子間力顕微鏡をご紹介！
『Park NX-Wafer』は、欠陥のイメージングと解析を完全自動で行う AFM計測手法により、欠陥検査における生産性を1 000％向上する 原子間力顕微鏡です。 正確でハイスループットのCMPプロファイル測定のための低ノイズ 原子間力プロファイラー。 サブÅの表面粗さを極めて正確に測定し、チップ間のバラツキを最小化します。 【特長】 ■欠陥のイメージングと解析を完全自動で行うAFMソリューション ■欠陥レビューにおける生産性を最大1000％向上 ■低ノイズ原子間力プロファイラーで正確且つ高スループットなCMP計測を実現 ■非常に正確で、チップーチップ間のバラツキも最小にしたサブÅ表面粗さ計測 ■原子間力プロファイラー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
最高レベルのナノスケール解像度で信頼あるデータを提供する原子間力顕微鏡
『Park NX10』は、サンプルのセッティングからイメージング、測定、 解析に至るまですべての段階において簡単に操作することができる 原子間力顕微鏡(AFM)です。 本製品なら、ユーザーはより多くの時間と、より優れたデータを基盤に 革新的な研究に集中することができます。 【特長】 ■クロストーク除去によるボーイングの無い正確なXYスキャン ■低ノイズZ検出器を使った正確なAFMトポグラフィー ■真のノンコンタクト(TM)モードによる最高クラスのチップ寿命、分解能 およびサンプルの保護 ■半導体/ポリマー/電池材料や炭素系材料などさまざまな材料の表面解析を ナノオーダーで解析(※イメージギャラリー参照) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
故障解析と大型試料における研究開発のためのナノ形状計測ツール
『Park NX20』は、パワー、汎用性、操作の容易性を芸術的に組み合わせた 大型試料用の原子間力顕微鏡(AFM)です。 本製品には、デバイス障害の背後にある原因を明らかにし、より創造的な ソリューションを開発するための独自の機能が装備されています。 また、真のノンコンタクト(TM)モードのスキャンによって、チップがより鋭く、 かつ長く保たれるため、無駄な時間と費用の発生を防ぐこともできます。 【研究およびFAラボにおける大型試料用AFMを使ったソリューション】 ■メディア、基盤用の表面ラフネス計測 ■欠陥検査イメージングと解析 ■高解分解能電気特性測定モード ■3D構造解析における側壁計測 ■低ノイズZ検出器を備えた正確なAFM形状イメージング ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
故障解析アプリケーションに適した真空環境スキャニング
『Park NX-Hivac』は、故障解析および環境の影響を受けやすい材料向けの 高真空原子間力顕微鏡(AFM)です。 高濃度ドープの半導体の正確な故障解析が可能。 また、当社のすでに認められた技術を用いることによって、高分解能で 高い再現性と操作性による低ノイズ計測を可能にした製品です。 【故障解析の為の高真空計測】 ■高速スキャンのための進化したStepScan自動機構とレーザーアライメント機構 ■マルチサンプルチャック ■Park独自の容易なチップ交換機能 ■大型真空チャンバー(300mm×420mm×320mm) ■超長距離観察を実現した直上光学顕微鏡 ■感度が向上された高真空SSRMモード ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
強力なライフサイエンス用走査型プローブ顕微鏡
『Park NX12-Bio』は、1台の革新的プラットフォームに3種類の 高性能ナノスケール顕微鏡を搭載した原子間力顕微鏡(AFM)です。 革新的な液中イメージングが可能な走査型イオンコンダクタンス 顕微鏡(SICM)と高い評価をいただいている原子間力顕微鏡(AFM)技術の 両機能を可能にしています。 【ナノスケール生物学研究のための総合的なソリューション】 ■フレクチャー式の完全独立Z軸スキャナ/XYスキャナを搭載、 完全非接触技術(TM)を備えた高精度Park NX AFM ■倒立型光学顕微鏡技術による超高分解光学イメージング ■スキャニング イオンコンダクタンス顕微鏡搭載により進化した 生体細胞イメージング ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
NXテクノロジーを導入した完全自動化産業用AFM
『Park NX-3DM』は、オーバーハングプロファイル、高解像度側壁 イメージング、および臨界角測定用に設計された完全自動AFMシステムの 原子間力顕微鏡(AFM)です。 傾斜Zスキャナを備えた特許取得済みの分離型XYおよびZスキャン システムにより、正確な側壁分析における通常およびフレアチップ法の 課題を克服します。 【ウエハファブ用で必須なツール】 ■高度で正確なPark NX技術を用いた完全自動産業用AFM ■アンダーカットやオーバーハング構造のためのチルトヘッドデザイン ■サンプル前処理不要で正確な側壁粗さ計測 ■完全非接触モード(TM)により、装置とサンプルにダメージを与えずに 高品質のイメージが得られる ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
欠陥の特定、走査および解析の自動欠陥検査を10倍迅速化する原子間力顕微鏡システム
『Park NX-HDM』は、メディア及び基盤用の自動欠陥検査及びサブオング ストローム表面粗さ測定が可能な原子間力顕微鏡です。 広範な光学検査装置と直接リンクし、自動欠陥検査のスループットを 大幅に向上させます。 また、繰り返し測定においてもサブオングストロームの正確な 表面粗さ測定を提供します。 【特長】 ■メディアおよび基板用の自動欠陥検査 ■正確なサブオングストロームの表面粗さ測定 ■真の非接触モードによるコスト削減 ■低ノイズZ検出器による正確なAFMトポグラフィー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
