自動欠陥検査機能、低ノイズ、高スループット！正確な原子間力顕微鏡をご紹介！
『Park NX-Wafer』は、欠陥のイメージングと解析を完全自動で行う AFM計測手法により、欠陥検査における生産性を1,000％向上する 原子間力顕微鏡です。 正確でハイスループットのCMPプロファイル測定のための低ノイズ 原子間力プロファイラー。 サブÅの表面粗さを極めて正確に測定し、チップ間のバラツキを最小化します。 【特長】 ■欠陥のイメージングと解析を完全自動で行うAFMソリューション ■欠陥レビューにおける生産性を最大1000％向上 ■低ノイズ原子間力プロファイラーで正確且つ高スループットなCMP計測を実現 ■非常に正確で、チップーチップ間のバラツキも最小にしたサブÅ表面粗さ計測 ■原子間力プロファイラー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
【仕様】 ■システム仕様：電動XYステージ ・200 mm：駆動 275 mm × 200 mm、分解能0.5 µm ・300 mm：駆動 375 mm × 300 mm、分解能0.5 µm ■XYスキャナ レンジ：シングルモジュールフレクチャー式クローズドループXYスキャナ ・100 µm × 100 µm (ラージモード) ・50 µm x 50 µm (ミデアムモード) ・10 µm × 10 µm (スモールモード) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■自動欠陥レビュー機能を備えた唯一のウェハー検査用AFM ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
カタログ（1）
カタログをまとめてダウンロード
企業情報
当社は、革新的技術と自動化ソフトウェアで非常に正確で使いやすい 原子間力顕微鏡(AFM)を開発、生産、販売するナノ計測機器専門企業です。 30カ国以上の世界的な販売網を開拓し、世界各地の様々な分野で 当社の原子間力顕微鏡が使用されています。 世界的水準の技術力を保有している急成長AFM企業として、核心技術の開発、 および優秀な製品開発に精進し、ナノテクノロジーの発展に先導してまいります。