NXテクノロジーを導入した完全自動化産業用AFM
『Park NX-3DM』は、オーバーハングプロファイル、高解像度側壁 イメージング、および臨界角測定用に設計された完全自動AFMシステムの 原子間力顕微鏡(AFM)です。 傾斜Zスキャナを備えた特許取得済みの分離型XYおよびZスキャン システムにより、正確な側壁分析における通常およびフレアチップ法の 課題を克服します。 【ウエハファブ用で必須なツール】 ■高度で正確なPark NX技術を用いた完全自動産業用AFM ■アンダーカットやオーバーハング構造のためのチルトヘッドデザイン ■サンプル前処理不要で正確な側壁粗さ計測 ■完全非接触モード(TM)により、装置とサンプルにダメージを与えずに 高品質のイメージが得られる ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【システム仕様】 ■電動XYステージ ・200mm：駆動 275mmx200mm、分解能 0.5μm ・300mm：駆動 375mmx300mm、分解能 0.5μm ■電動Zステージ ・Z駆動距離：30mm ・分解能：0.08μm、再現性 < 1μm ■電動フォーカスステージ ・Z駆動距離：11mm、直上光学系 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
パーク・システムズは、原子間力顕微鏡（AFM）の開発に携わった創業者によって設立され、ナノスケールの顕微鏡・計測技術を世界に提供しているグローバル企業です。 試料や探針へのダメージを抑え、高精度な測定を可能にする独自のTrue NonContactAFM技術をはじめ、高精度な3D計測技術や自動化システムの開発を進め、研究開発向け装置から半導体産業向けの計測ソリューションまで幅広く展開しています。
