イオン質量分析装置のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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イオン質量分析装置 - メーカー・企業4社の製品一覧とランキング

イオン質量分析装置の製品一覧

31~37 件を表示 / 全 37 件

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【分析事例】二次電池

一粒の粉体表面に分布する成分の評価が可能

リチウムイオン二次電池で使用される黒鉛負極粒子を塗布したシートを、TOF-SIMSにて分析した事例をご紹介します。一粒の粉体の表面にグラファイトとPVDFが分布している様子が確認できました。 飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF-SIMS)は、二次イオンのマススペクトルから表面の有機物・無機物の定性・イメージに適した手法です。分解能よく分析することが可能なため、微小異物やしみなどの分布評価に有効です。 測定法:TOF-SIMS 製品分野:二次電池 分析目的:組成分布評価 詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。

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【分析事例】表面分析による品質管理

表面の付着成分(ポリジメチルシロキサンなど)をTOF-SIMSで評価できます

TOF-SIMS(飛行時間型二次イオン質量分析法)は、最表面の有機物・無機物を感度よく評価可能な手法で、製品の様々な品質管理を行うときの分析手段として利用することができます。例えば、製品保管時の表面付着物の定期的な確認、製品に剥離・変色などの不具合品が発生した際の原因調査、製作条件を変えた前後での着目成分の変化などです。本資料では、付着成分として代表的なポリジメチルシロキサン(PDMS)について、保管環境が異なるSiウェハ表面の比較を行った例を紹介します。 測定法:TOF-SIMS 製品分野:電子部品・製造装置・部品・その他(エレクトロニクス全般) 分析目的:表面分析・化学結合状態評価・故障解析・不良解析・その他(汚染評価、品質管理) 詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。

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【分析事例】ペロブスカイト太陽電池のHTM層の分析

成分および深さ方向分布評価が可能

ペロブスカイト太陽電池は、フィルム状で優れた変換効率を有し、低コストで製造できることから、実用化に向けた研究開発が盛んに行われています。 HTM層(ホール輸送層)の成分分析や主成分、ドーパント、不純物の深さ方向分布評価には、TOFSIMS(飛行時間型二次イオン質量分析法)が有効です。本資料では、HTM層からペロブスカイト層までの深さ方向分析を実施した事例を紹介します。 測定法:TOF-SIMS 製品分野:太陽電池 分析目的:同定、分布評価 詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。

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高機能自動化SIMS

半導体デバイスなどのプロセス開発や不良解析への迅速なフィードバックを行うことが可能!

二次イオン質量分析(SIMS)は、全元素に対して高感度かつ高質量分解能測定での 深さ方向分析が可能です。 さらに当社では、試料導入から分析までの自動化機能を加え、高精度な自動測定が 可能になりました。 それによって、短期間で回答が求められる半導体デバイスなどのプロセス開発や 不良解析への迅速なフィードバックを行うことができます。 【特長】 ■高感度測定:Ag、In、Sbなどの重元素の高感度測定が可能 ■高質量分解能測定 ・M/△M=~10,000 ・SiやSiO2中のP、Al、Fe、Niなどの汚染量評価が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • その他 分析・評価受託

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高性能磁場型SIMS

高感度・高質量分解能・高深さ方向分解能の3つの特長を備えるSIMS!

「高性能磁場型SIMS」は、すべての元素を高感度で深さ方向分析できる 装置です。 低エネルギー分析でも高感度かつ高質量分解能分析が可能な高性能SIMSに よって、難易度の高い、極浅領域における高精度な測定が可能となりました。 これにより、微細化や材料の多種多様化が進む半導体デバイスへ適用できる ようになりました。 【特長】 ■高感度測定(高い透過率) ■高質量分解能 ■極低エネルギー分析から通常分析まで様々な測定が可能 ■高輝度イオン銃搭載 ■高い繰り返し精度での自動測定、測定可能試料数25個 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • 分析機器・装置

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SSDP-SIM

SSDP: Substrate Side Depth Profile

二次イオン質量分析法(SIMS)では、試料表面の凹凸、イオン照射により表面側に存在する原子が奥側に押し込まれるノックオン効果やクレーター底面粗れ等の現象により、急峻な元素分布を得られない場合があります。この問題を解決するために、薄片化加工を行った基板側(裏面側)からSIMS分析を行うのがSSDP法(Back-Side SIMS法)です。この手法により、試料形状や測定条件に起因する影響を受けることなく、より正確な元素分布評価が可能になります。

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【分析事例】デバイスの金属膜中および界面における金属不純物の評価

めっきなどの膜中・界面の不純物をTOF-SIMSで評価できます。

成膜装置部品、ターゲット材、めっき液などからデバイス中に不純物が混入し、悪影響を与えるため、表面、膜中や界面の不純物の定性評価が重要です。TOF-SIMSでは下記3つの特徴から一度の測定で表面、膜中や界面に存在する未知の元素を高感度に評価することが可能です。 1. 金属元素の場合、一度の測定でm/z 1から800のイオンを同時に検出できること 2. 数ppmの検出感度が得られること(材料・各イオンにより変動) 3. スパッタガンを用いることで深さ方向の分布を評価できること

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  • その他半導体

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