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マグネトロンイオンスパッタ
ターゲットの背面に強力な磁石を用いてカソード表面層でのイオン化を促進し、磁界により電子をターゲットに衝突させて金属分子を放出させる原理を応用したのがマグネトロンスパッタ装置です。 当社のマグネトロンスパッタ装置は、試料へのダメージが極めて少ないことが特徴です。 スパッタさせる金属の種類、試料の大きさ、小型で安価など、お客様のご要望に合ったラインナップを各種揃えております。