テクノファインの製品・サービス一覧

『TFALD-201』は、昇華原料に対応した研究開発用ALDシステムです。 金属酸化物、貴金属、複合金属膜の成膜に対応。 また、様々な原料や反応ガスの圧力に応じて、適したガス供給ユニットを 選択することができます。さらに原料ユニットおよびガス供給ユニットは 必要に応じて追加することも、取り外すことも可能です。 【特長】 ■昇華原料に対応 ■研究開発用 ■金属酸化物、貴金属、複合金属膜の成膜に対応 ■高アスペクト比の三次元構造に対して均一な成膜 ■詳細なカスタマイズが可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他理化学機器

『TF-ALDシリーズ』は、東北大学における先端融合領域イノベーション 創出拠点形成プログラムの研究成果をもとに製品化した昇華原料対応の ALDユニットです。 4chの温調と最大2個の高耐久高速バルブを搭載。 シリアル通信もしくはETHER NET通信により全コントロールが可能です。 原料の蒸気圧および反応ガスの種類に応じて6種類のユニットをご用意 しております。 【特長】 ■原料容器、バルブ、配管、ヒーター等をユニット化 ■4chの温調と最大2個の高耐久高速バルブを搭載 ■シリアル通信もしくはETHER NET通信により全コントロールが可能 ■原料の蒸気圧および反応ガスの種類に応じて6種類のユニットをご用意 ■2種類の原料容器(大：約180ml、小：約60ml)を選択可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他理化学機器

φ2～φ8インチの各種サイズに適用する縦置きウエハー洗浄治具。すべてフッ素樹脂(PTFE)製のため、酸・アルカリ問わず幅広い溶剤に使用できます。ワークサイズ、セット数の変更、持ち手長の変更など特注仕様にも対応します。

• 樹脂器具・容器

φ2～φ8インチの各種サイズに適用する縦置きウエハー洗浄治具。すべてフッ素樹脂(PTFE)製のため、酸・アルカリ問わず幅広い溶剤に使用できます。ワークサイズ、セット数の変更、持ち手長の変更など特注仕様にも対応します。

• ステンレス器具・容器

遠心力を利用し、シリコンウェハなど基板状ワークの乾燥処理をおこないます。卓上に設置可能であり、すべての機種の電源はコンセント供給となりますので、設置にともなう追加の電気工事は必要ありません。20mm角基板から6インチウェハまで、各サイズのラインナップを取り揃えております。

• 乾燥機器