当社の受託システムは、お客様のご要望の数だけの製品数を、少量～中量の 商業生産をも可能にし、まさしく理想的なソリューションをご提供します。 研究によって生み出される緻密なデータと豊かな創造力は、多種多彩な製品 へと姿を変えます。 お客様のご要望を満たすため創造のエネルギーを燃やし続け、机上⇒実験室 ⇒工場へと段階を経て、プロセス開発と製品化を着実に進めていきます。 【得意な技術（一部）】 ■ニトロ化 ■エステル化 ■スルホン化 ■エーテル化 ■フリーデルクラフト反応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他受託サービス

『マストーバ MIS-3b』は、シリカ系スケールの除去に使用できる 工業用洗浄剤です。 結晶化したシリカ系スケールを基材設備等の表面から除去します。 粘度の高いジェルタイプなので、壁面等に直接塗布することが可能です。 （用途に応じて粘度の調節可能） また、青色ジェルのため、拭き残しが一目で確認できます。 【特長】 ■結晶化したシリカ系スケールを基材設備等の表面から除去できる ■粘度の高いジェルタイプ ■壁面等に直接塗布することが可能 ■青色ジェルのため、拭き残しが一目で分かる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 洗浄剤

『マストーバSC』は、カルシウムやマグネシウム由来のスケール洗浄液です。 配管内に付着したスケールの洗浄液で、SUS304や塩ビへの影響がなく 使用可能。 電子工業などで使用されています。 【特長】 ■カルシウムやマグネシウム由来のスケール洗浄液 ■SUS304や塩ビへの影響がなく使用可能 ■電子工業などで使用 ■容量・荷姿は20kg缶/ドラム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 洗浄剤

『アンラスト RC-2』は、ガラスやドライフィルムなどの対象物に 適用可能な、工業用洗浄剤です。 揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要。 フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能です。 【特長】 ■フォトマスクにダメージを与えずに、汚れの拭き取り除去が可能 ■揮発性が高いため、拭き取り後の洗浄が不要 ■適用法令：消防法　危険物第四類第1石油類 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品
• そのほか消耗品
• 洗浄剤

『アンラスト RMR-2』は、アルカリタイプの水溶性洗浄剤です。 低発泡性で、NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能。 ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取ることで容易に設備を清掃できます。 【特長】 ■ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 　拭き取ることで容易に設備を清掃できる ■低発泡性 ■NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能 ■アルカリタイプの水溶性洗浄剤 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品
• そのほか消耗品
• 洗浄剤

『アンラスト ROS-2』は、レジスト処理設備の洗浄剤です。 「アンラスト ROS」の改良品で、塩ビやフッ素ゴムに対するダメージが 殆どありません。 レジストスラッジが固着した設備配管や処理槽壁面に対して、漬循環あるいは 直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が図れます。 【特長】 ■レジストスラッジが固着した設備配管や処理槽壁面に対して、漬循環 　あるいは直接汚れに塗布することによって、洗浄時間の短縮・効率化が図れる ■「アンラスト ROS」の改良品 ■塩ビやフッ素ゴムに対するダメージが殆どない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品
• そのほか消耗品
• 洗浄剤

『アンラスト R500』は、対象物がドライフィルムとポジレジストの レジスト剥離促進剤です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリなどアルカリベースの剥離液に 添加することにより、レジストの剥離が容易。 20kg缶と200kgドラムをご用意しております。 【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリなどアルカリベースの剥離液に 　添加することにより、レジストの剥離が容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品
• そのほか消耗品

『アンラスト F』は、レジスト剥離液に添加するタイプの剥離促進剤です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容易。 15kg缶と180kgドラムをご用意しております。 【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 　添加することにより、アルカリ単体では困難な微細加工部の剥離が容易 ■適用法令：危険物　危険物第四類第2石油類　水溶性液体 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品
• そのほか消耗品

『アンラスト TP160』は、生分解性がよく、環境負荷の少ない フォトレジスト剥離液です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に添加する ことにより、レジストの剥離が容易。 鉄系基材に対し、防・除錆効果があります。 【特長】 ■苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に 　添加することにより、レジストの剥離が容易 ■鉄系基材に対し、防・除錆効果がある ■生分解性がよく、環境負荷が少ない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品
• そのほか消耗品

『アンラスト No.2C』は、珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品です。 アルミニウム基盤にも使用可能。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 20kg缶をはじめ、ドラムやローリーでご用意しております。 【特長】 ■珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品 ■アルミニウム基盤にも使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品
• そのほか消耗品

『アンラスト M71-2』は、有機アルカリタイプで、アルミニウム基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 浸漬法、スプレー法にも対応。 剥離片を柔らかくし、細分化させる効果があります。 【特長】 ■有機アルカリタイプ ■アルミニウム基板にも使用可能 ■浸漬法、スプレー法にも対応 ■剥離片を柔らかくし、細分化させる効果がある ■毒物劇物取締法：毒物 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品
• そのほか消耗品

『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で主に使用されています。 【特長】 ■PVA系フォトレジストの剥離剤 ■特にリードフレーム用として開発 ■剥離された皮膜は比較的小さい ■BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっている ■毒物劇物取締法：毒物 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品
• そのほか消耗品

『アンラスト M601』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能な フォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラムでご用意しています。 浸透性が高いため、細部まで剥離が可能。浸漬法、スプレー法に対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品

『アンラスト M6』は、有機アルカリタイプでアルミ基板にも 使用可能なレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意。 ドライフィルム、ポジレジストを対象物とし、浸漬法、スプレー法に 対応できます。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品

『アンラスト M10』は、処理方法として浸漬法、スプレー法にも対応した レジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナ／ローリーでご用意しています。 剥離片が小さくなるため、基材への引っ掛かり等によるレジスト剥離不良を 防止できます。 【処理条件】 ■濃度：原液処理又は純水にて希釈使用 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品

株式会社三若純薬研究所の取り扱うレジスト剥離液『アンラスト No.1D』を ご紹介します。 珪酸塩ベースの高沸点溶剤等の混合品で、アルミニウム基盤にも対応可能。 20kg缶／ドラム／ローリーでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液又は純水にて希釈 ■温度：常温～70℃ ■時間：20～90秒 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品

『アンラスト OS15』は、カゼイン系、PVA系レジスト及びドライフィルム レジストの剥離に適したフォトレジスト剥離液です。 20kg缶／ドラム／1tコンテナでご用意。 キレート剤を含有しており、鉄板表面の除錆作用もあります。 【処理条件】 ■濃度：3倍希釈～原液 ■温度：50～70℃ ■時間：2～10分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品

『アンラスト RW-C』は、樹脂に対して強力な剥離、洗浄性があり、 浸漬法、スプレー法に対応可能なフォトレジスト剥離液です。 ガラス基板の再生・洗浄、樹脂レジストの剥離用途に好適。 苛性アルカリと高沸点溶剤の混合品です。 【処理条件】 ■濃度：原液処理 ■温度：50～70℃ ■時間：5分前後 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品

『アンラスト EW-R』は、エナメル電線皮膜のポリエステルの剥離に適した 塗装剥離液です。 処理方法は、対象物を浸漬し、ウエス等での拭き取りでエナメル電線皮膜を 剥離することが可能。 塩素系、アミン系の溶剤を含有せず、臭いを抑え、人体への影響が少ない 製品です。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ■時間：30～120分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品

『アンラスト RC-D6』は、レジストや塗料の剥離用途に適した フォトレジスト剥離液です。 溶剤タイプの剥離液で、ドライフィルムレジスト剥離液や ウレタン塗料の剥離等に使用可能。 18kg缶／ドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～60℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品

『アンラスト M11』は、アルミ等にも対応可能な塗装剥離液です。 有機アルカリタイプの水溶性塗料剥離剤のため、鉄鋼、非鉄金属製の 治具等の塗料剥離用途として好適。 18kg缶／200kgドラムでご用意しています。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：常温～70℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品

『アンラスト MP』は、浴寿命が長く経済的な塗装剥離液です。 苛性アルカリに混合し、溶剤粉体、電着塗料等の剥離促進などの用途に好適。 高温使用が可能の為、剥離性に優れています。 【処理条件】 ■濃度：苛性アルカリに2～5％混合 ■温度：70～110℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品

『アンラスト CA』は、各種被膜を剥離する中性タイプの 水系塗装剥離液です。 液性が中性の為、素材を選びません。 また、剥離物が殆ど溶解しない為、液疲労が小さく、 非常に経済的です。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：50～70℃ 【対象物】 ■アルミ・塗料 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品

『アンラスト RMO-K』は、苛性カリベースの電着塗装剥離剤です。 塗膜の溶解が比較的少ない為、浴寿命が長く経済的。 また、高温使用が可能の為、剥離性に優れ、塩素系溶剤、 有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度：原液 ■温度：70～110℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品

『アンラスト RMO-C』は、高温使用が可能の為、剥離性に優れている 塗装剥離液です。 塗膜の溶解が比較的少ない為、浴寿命が長く経済的。 また、高濃度タイプの為、添加量が少なくてすみ、 塩素系溶剤、有機溶剤中毒予防規則に指定される物質を含みません。 【処理条件】 ■濃度：苛性アルカリに3～7％混合 ■温度：70～110℃ ■時間：5～60分 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品

『アンラスト CB』は、鉄鋼、非鉄金属製の治具等に適した 塗装剥離液です。 アルカリタイプですが、アルミ及びアルミ合金材に対する 腐食性が無く対応可能。 また、剥離タイプで塗膜が殆ど溶解しない為、液疲労が小さく 非常に経済的です。 【特長】 ■各種被膜を剥離するアルカリタイプ ■アルミ及びアルミ合金材に対する腐食性が無く対応可能 ■剥離タイプで塗膜が殆ど溶解しない ■液疲労が小さく非常に経済的 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品

『マストーバ IC4』は、銅・銅合金用の化学研磨液です。 添加剤を加えることで液寿命を長くすることが可能。 電子工業の業界に使用されています。 【特長】 ■銅とITOのどちらもエッチングが可能 ■添加剤を加えることで液寿命を長くすることが可能 ■電子工業の業界に使用されている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品
• その他研磨材

『マストーバ C-365A』は、銅・銅合金用の化学研磨液です。 研磨後の表面平滑性に優れ、処理面には良好な金属光沢が得られます。 処理方法は、浸漬、液中スプレー等での使用を推奨します。 【特長】 ■研磨後の表面平滑性に優れている ■処理面には良好な金属光沢が得られる ■処理方法は、浸漬、液中スプレー等での使用を推奨 ■銅、銅合金用の化学研磨に好適 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品
• その他研磨材

『マストーバ E1』は、アルミ・アルミ合金用のエッチング液です。 混酸タイプのエッチング液で、臭気が少なく作業性に優れています。 電子業界に使用いただいています。 【特長】 ■混酸タイプ ■臭気が少ない ■作業性に優れている ■アルミ・アルミ合金用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品

『アンラスト CK』は、簡単な処理で変色防止効果を発揮し、低コストでの 運用が可能な防・除錆剤です。 アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能。 また、常温下、短時間の処理で運用が可能の為、作業に負担がかかりません。 【特長】 ■簡単な処理で変色防止効果を発揮 ■低コストでの運用が可能 ■アルカリ溶液に浸漬することで除去することが可能 ■常温下、短時間の処理で運用が可能 ■作業に負担がかからない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品
• 防錆剤

『アンラスト 70』は、短時間に素地を荒らすことなく、水素脆化の 心配のない鉄鋼用アルカリ除錆剤です。 フォトエッチングラインの最終工程や製品の再洗浄用処理剤として効果的。 シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能です。 【特長】 ■短時間に素地を荒らすことなく、水素脆化の心配がない ■シミ、ヤケ、錆の程度にあわせて処理条件を変更可能 ■容量・荷姿は20kg缶～ローリーをご用意 ■フォトエッチングラインの最終工程や製品の再洗浄用処理剤 　として効果的 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品
• 防錆剤

株式会社三若純薬研究所は、ヒドロキシルアミン類等オリジナル製品、 受託合成品、機能性配合品の特注化学品製造メーカーです。 脱脂剤、剥離剤、表面処理剤や酸系の金属処理液など、お客様の ニーズにお応えする最適な製品を提案致します。 また、受託システムでは、お客様のご要望の数だけの製品数を少量～中量 の商業生産をも可能にし、理想的なソリューションをご提供します。 【自社ブランド製品】 ■ヒドロキシルアミン塩類 ■アンラストシリーズ ■マストーバシリーズ ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

• 化学薬品