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株式会社日本レーザー

設立1968年4月16日
資本金3000万
従業員数60名
住所東京都新宿区西早稲田2-14-1
電話03-5285-0861
  • 公式サイト
最終更新日:2022/01/14
株式会社日本レーザーロゴ
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オーバートーン対応 分子相互作用 質量変化 粘弾性 膜厚分析機器

分子相互作用、バイオフィルム、液体特性、血液分析をリアルタイムで観察

qCell Tシリーズは、分子相互作用、バイオフィルム、液体特性、血液分析をリアルタイムで観察する、減衰/散逸モニタリングを備えた、高度な水晶振動子マイクロバランス装置です。質量変化と粘弾性、膜厚をリアルタイムで分析可能。5~50 MHzの共振周波数と散逸(Dissipation)を測定が可能。5 MHzと10 MHzの両方のセンサーに対応、5、15、25、35、45、10、30、50 MHzに対応する合計8つの高調波(オーバートーン)にアクセス可能です。 お問合せ

  • その他検査機器・装置

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フーリエ変換型分光器

時間領域フーリエ変換検出に基づく分光器 VIS-NIR-SWIR-MIRで高速スキャン可能

可視光から中赤外光まで対応する高速スキャン対応の分光器(スペクトロメータ)です。独自技術により光源スペクトルを高精度に測定し、吸収・透過・反射スペクトル分析に最適です。コンパクトながら多様な波長域をカバーし、研究開発から品質管理まで幅広く使用いただけます。

  • 近赤外分光光度計

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可視光-短波長赤外線 ハイパースペクトルカメラ

ハイパースペクトルカメラ 可視域と近赤外域の情報を同時に測定し、組み合わせが可能。

HERA VIS-SWIRは、超広帯域スペクトル範囲(400-1700nm)で130万画素のハイパースペクトル画像を撮影可能。可視光域と短波長赤外線の近赤外域の情報を同時に測定し、組み合わせることができます。

  • カラーカメラ

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SiC GaN ウエハ フォトルミネセンス対応 欠陥スキャナー

フォトルミネセンス マッピングに対応した高速レーザー欠陥スキャナー

炭化ケイ素(SiC)および窒化ガリウム(GaN)ベースのウエハと化合物半導体材料の表面下欠陥検査とクラス分け機能のニーズに応えるように開発されました。。さまざまなウェーハ処理オプションが用意されており、クラス最高のスループットと感度を備えながら、1パスあたりのコストを最小限に抑え、研究開発と大量生産の双方の対応します

  • 基板検査装置

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基板用 高速レーザー欠陥スキャナー

ガラス基板、半導体基板、ディスプレイ基板などの基板の欠陥を可視化する欠陥検査イメージング装置

基板用高速レーザー欠陥スキャナー PrimaScanシリーズ。ガラス基板、半導体基板、ディスプレイ基板などの基板の欠陥を可視化する欠陥検査イメージング装置です。 高速での測定とnm単位の高いPSLパーティクル感度を実現。透明、半透明、不透明の基板に対応。 サンプルの大きさから PrimaScan、PrimaScan R&D、PrimaScan Pをラインアップ。 最大サンプルサイズ600mm x 600mmに対応。 ウエハ入荷検査、ウエハチャックの検査。ブランケットフィルム(膜付きウエハ)の検査。AR/VR/MR用マイクロレンズアレイの内部応力・ギャップ等の検査。フォトレジストのコーティング欠陥検査などに使用いただけます。

  • 基板検査装置

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超解像ミクロスフィア増幅対物レンズ

≦100nm分解能を実現した対物レンズ。

≦100nm分解能。超分解能ミクロスフィア増幅レンズ SMAL(Super-resolution Microsphere Amplifying Lens ) 非接触・非破壊で半導体製造工程でのシリコンウエハの検査等にご使用いただけます。

  • レンズ

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ミクロスフィア式超解像分解能光学顕微鏡 ≦100nm分解能

≦100nm分解能 光学顕微鏡 非破壊、フルカラーで観察可能

回折限界を超えて観察ができます100nm以下の空間分解能で、ナノスケールの構造を非破壊・フルカラーで観察できます。半導体研究開発および先端材料イメージング、またはSEMやAFMの代わりとしてご使用いただけます。対物レンズのみでの販売も可能です。

  • 光学顕微鏡

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レーザー微細加工 高出力フェムト秒ファイバレーザー

レーザー微細加工、ポリマ切断、集積フォトニクス機器、ディスプレイ製造、民生向け電子機器製造に最適

オールファイバの高出力フェムト秒ファイバレーザーです。ポリマ切断、レーザー微細加工、表面構造化、集積フォトニクス機器、ディスプレイ製造、民生用電子機器製造のアプリケーションに最適です。SESAMフリー発振器で40Gの振動でも動作可能。

  • レーザーマーカー

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高出力フェムト秒レーザー ガラス切断 半導体・OLED製造に最適

フェムト秒レーザー ステントおよび医療機器製造、ガラス切断、半導体・OLED製造、太陽電池製造も最適。

最大出力10W、20W、30W、60W、をご用意。ハンズフリーオペレーションと長期安定性を実現。SESAMフリー技術により堅牢性に優れれ、過酷な環境下で使用可能。

  • レーザーマーカー

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フェムト秒ファイバレーザー 超高速微細加工 アブレーション

フェムト秒レーザー コンパクト設計 超高速精密加工・アブレーション 対応

コンパクトなフェムト秒レーザー。平均出力最大7W。OEM組込みも可能なオールファイバのレーザーです。メンテナンスに手間がかからず、費用対効果に優れたレーザーです。

  • レーザーマーカー

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AFM 原子間力顕微鏡 ナノオブザーバー 2

老舗AFMメーカのハイエンド品並みの測定品質を実現

柔軟性、卓越した性能、使いやすい操作性を兼ね備えつつ、老舗AFMメーカのハイエンド品並みの測定品質を実現。ナノスケールのイメージングと特性評価のための幅広い機能を備えています。電気特性測定(KFM、C-AFM)、脆いサンプルも測定可能なソフトICモードも実現。

  • その他顕微鏡・マイクロスコープ

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波長選択ユニット 広視野顕微鏡 共焦点顕微鏡 対応

波長選択ユニット広視野顕微鏡 共焦点顕微鏡対応。 太陽電池と太陽光発電、LEDとOLED、ナノ粒子と2D材料の特性評価に使用可能

最高の感度を実現する400~1000nmの80%以上の透過率によるスペクトルスキャンを実現。また光回折格子によるパルス幅の広がりのない高い時間分解能を実現

  • その他光学部品

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ゲインドスイッチレーザー 単色

光ファイバー結合効率40%の高効率を実現。コンパクトかつお手頃な価格のレーザーです。

ライフサイエンスや材料科学分野の厳しい要求を満たすために設計された、コンパクトでスタンドアローンな最先端ゲインスイッチド・ピコ秒レーザーです。Unico レーザーシステムは、ピコ秒領域の正確で高品質なパルスを供給するように設計されており、時間分解蛍光分光法およびイメージングに理想的なツールとなっています。

  • レーザーマーカー

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AR/XRグラス 画質測定&テストステーション

AR/XRグラス、サブアセンブリ向け多目的イメージングおよびテストステーション

AR/XRグラスとサブアセンブリのための、テスト対象デバイス(DUT)の画質を包括的に評価し、アイボックス、視野(FOV)、両眼視差、コントラスト比、色、均一性、幾何学的歪みを測定。

  • 光学測定器

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AR/VR/MRグラス 性能テストシステム

AR/VR/MRグラス 性能テストシステム

仮想世界の位置がロボットの位置によってどのように変化するかを、非接触で測定。トラッキングとレイテンシの一貫した検査が可能。

  • 光学測定器

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AR導光板製造向け 自動画像品質検査装置

ARグラス用導光板の製造環境向け画像品質検査システム

AR導光板製造の全工程にわたって、一貫した品質管理を実現。高いスループットを実現。自動合否判定やモーションコントロールを搭載。高度な解析を可能にするAPIと高い拡張性を持ちます。

  • 光学測定器

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R&D向け AR導光板品質の自動画像検査システム

AR導光板の自動画像品質テストを実現

あらゆるAR導光板の画像品質を、タイプや構成に関係なく、確実かつ自動で測定が可能。プロトタイプ製造や少量生産に最適なR&D向けモデル

  • 光学測定器

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AR導光板グレーティング解析システム

AR導光板グレーティングの品質を総合的に評価できる高精度な回折計システム

種類や基板に関係なくあらゆるグレーティングサンプルを測定可能、回折格子のピッチと方向を測定、ピコメートルおよび秒角スケールの高精度で、グレーティング構造の欠陥を検出。グレーティング構造の均一性を広い領域にわたって評価できます。

  • 光学測定器

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ダイオード励起短パルスQスイッチ固体レーザー

LiDAR、MALDI-TOF質量分析、LIBS対応、近赤外から紫外まで(NIR-UV)対応 のDPSSレーザー

近赤外から紫外(NIR-UV)対応、最大出力300µJ @ 1064nmのレーザー。LiDAR、MALDI-TOF質量分析、LIBS(レーザー誘起ブレークダウン分光法)に適します。コンパクト設計で組込み用途にも容易に使用いただけます。

  • レーザーマーカー

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フラッシュランプ励起チューナブル OPOレーザー

光音響イメージングに最適 レーザー光源、OPOモジュール、冷却システムなど可動式キャビネットに一体化

主に光音響イメージング、レーザー分光法、LiDAR、バイオメディカルアプリケーションに使用される波長可変ナノ秒レーザーです。励起レーザー光源、OPOモジュール、電源、冷却システムは可動式キャビネットに一体化されており、お客様にとってフレキシブルな使用が可能です

  • レーザーマーカー

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マルチモーダルイメージング Micro蛍光発光 アップグレード

高分解能定常発光スペクトルと時間分解発光スペクトルの両方を取得するイメージング装置

空間、スペクトル、寿命測定を一体化した時間分解マイクロフォトルミネッセンス分光のイメージング装置。特定の領域や関心点の高分解能定常発光スペクトルと時間分解発光スペクトルの両方を取得することが可能。

  • レーザー顕微鏡

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小型直立型広視野フォトルミネッセンス 顕微鏡

小型広視野のフォトルミネッセンス(蛍光発光)顕微鏡

375~1060nmの励起波長を選択可能。ピコ秒のタイミング分解能で寿命検出範囲は数psから数ms。太陽電池材料とペロブスカイトの研究、ディスプレイ、LEDの材料との特性評価に最適です。

  • レーザー顕微鏡

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AFM-IR装置 12インチ 300mm 対応

12インチ ウエハ。300 mm × 300 mm 対応のAFM-IR装置。ナノ加工における研究開発および故障解析に最適。

12インチ対応。AFM-IR装置 PiFM / PiF-IR。ナノ加工における研究開発および故障解析に最適な最先端の ナノ化学測定装置。業界トップクラスの自動化を実現したAFMです。 ※詳細はお問い合わせください。

  • 外観検査装置

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He-Neレーザー 電源

安定した出力 長寿命 低ノイズ 組込みにも適したHe-Neレーザー用電源

He-Neレーザーの電源装置は、長寿命、低ノイズ、OEM組込みにも適した設計になっています。遠隔操作も対応しています。最新のマイクロコントローラーによる制御で様々なレーザーモデルに対応いたします。

  • 電源

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PDT・PIT・PTT ラボ実験用レーザー照射システム

PDT・PIT・PTT研究用マルチチャンネルデスクトップレーザー。光線力学療法、光免疫療法、光温熱治療法の研究開発に最適

PDT(Photodynamic Therapy: 光線力学療法)、PIT(Photoimmunotherapy: 光免疫療法)、PTT(Photothermal Therapy:光温熱治療法)などの実験・研究用途向けのマルチチャンネルデスクトップレーザー。最大4チャンネルまでレーザーが搭載可能。波長 375nm~ 1550nmに対応。

  • レーザー顕微鏡

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PDT/PIT/PTT用レーザー照射装置 “BrixX PDT”

PPDT (光線力学療法)PIT(光免疫療法)PTT(光温熱治療法)用レーザー光源 研究開発用に最適な光源です。

高出力半導体レーザー”BrixX-PDT”シリーズはPDT(Photodynamic Therapy: 光線力学療法)やPIT(Photoimmunotherapy: 光免疫療法)、PTT(Photothermal Therapy:光温熱治療法)などレーザー光がん治療・診断の研究開発に最適な光源です。使用する光感受性物質の吸収波長に応じて、405nm, 635nm, 650nm, 665nm, 690nm, 750nm等幅広い波長を提供できます。

  • レーザー顕微鏡

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高性能サーモグラフィ “VarioCam HD head”

高解像度、高分解能、高精度のサーマルイメージを得ることができる高性能サーモグラフィ

●マイクロスキャン技術搭載で最大3.1メガピクセルの高解像度を実現 ●最高温度検出精度<±1% ●最高温度分解能<0.02℃ ●最大フレームレート240Hzで高速撮影対応 ●IP67準拠ハウジングで過酷な環境や屋外使用に対応 ●外部トリガーでの撮影可能 ●レンズ、解析ソフトウェアのバリエーション豊富 詳しくはお問い合わせください。

  • サーモグラフィ

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超低ジッター デジタルサンプリングオシロスコープ

超低ジッターデジタルサンプリングオシロスコープ。テストのスループット(処理能力)を最適化。組込みに対応

高品質かつ高精度なタイムベースと低ジッタ・モードを持つデジタルサンプリングオシロスコープです。超低ジッター性能を実現。コスト効率が高く、スケーラブル 高い拡張性を持ちます。高精度な測定を同時に実行が可能で、テストのスループットを最適化し、テスト全体のコストを削減できます。コンパクト設計、リモートコントロールとAPIで装置に簡単に組込んでいただけます。 VISEYE 新設計の可視化・解析ソフトウェアが強力かつ直感的で使いやすい測定を実現します。

  • オシロスコープ

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拡張SWIR 短波赤外 ハイパースペクトルカメラ

短波赤外(900 – 2300 nm )に対応。ハイパースペクトルカメラ

短波赤外(900 – 2300 nm )に対応。ハイパースペクトルカメラHERA Extended SWIRは優れた空間スペクトル分解能と、低い照度の下でも高感度を実現するフーリエ変換 (FT) 検出技術を採用。分解能(320×256)4段式TEクーラー・14ビットセンサーを搭載により高精細を実現。

  • カラーカメラ

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SWIR 短波赤外 ハイパースペクトルカメラ

ハイパースペクトルカメラ HERA SWIR  短波赤外(900 – 1700 nm )に対応

HERA SWIRは、900nm – 1700nmのスペクトル範囲に対応。分光イメージングの革新的なアプローチを可能にするコンパクトかつ堅牢なカメラです。独自の特許技術の時間領域フーリエ変換(FT)検出を使用しており、卓越した空間スペクトル分解能と低照度下でも優れた感度で撮影が可能です。冷却InGaAs (640×512)、14ビットセンサーを搭載し高精細を実現。

  • カラーカメラ

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可視光-近赤外 ハイパースペクトルカメラ VIS-NIR

ハイパースペクトルカメラ VIS-NIR対応 高感度の蛍光ハイパースペクトルイメージング

ハイパースペクトルカメラ HERAは可視光~近赤外(400 – 1000 nm )に対応。フーリエ変換 (FT) 検出の技術を基に卓越した空間スペクトル分解能と低照度下での優れた感度を実現。CMOSセンサー1280 x 1024を搭載。コンパクトかつ頑強な設計で、1cm クリアアパーチャ(開口)で卓越した光透過率を備えたカメラです。

  • カラーカメラ

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最大6波長 高出力マルチモード レーザーコンバイナー

波長375~1550nm。高出力レーザーを最大6つ搭載可能。マルチモードに対応。広視野レーザー照明

広視野レーザー照明に最も適した高度に統合されたプラグ&プレイシステムです。最大6つのレーザーと6つの変調入力を備え、比類のない柔軟性を実現。オプションにて切替用NDフィルターを内蔵。

  • レーザー顕微鏡

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AFM-IR 装置 サブ5 nm IR 空間分解能

AFM-IR装置  分光ナノスコピーPiFM・PiF -IR

サブ5 nm のIR 空間分解能を実現したAFM-IR装置です。コンパクトかつ自己完結型システム。光学系のクイックチェンジ・切り替えが簡単かつ、サンプルへのアクセスが容易です。

  • その他顕微鏡・マイクロスコープ

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AFM-IR装置 サブ 10 nm対応

ナノスケールIR化学分析用のオリジナルPiFM用AFM

サブ 10 nm PiFMケミカルマッピングを実現。FTIR やナノ FTIR よりも詳細なナノスケールのケミカルマッピングと点スペクトルを取得可能です。最速 100 ミリ秒 / 1点でPiF IR スペクトルを掃引が可能。短時間で測定ができます。

  • その他顕微鏡・マイクロスコープ

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AFM-IR装置 8インチ(200 mm)ウエハ対応

8インチ(200mm)ウエハをそのままサンプルステージに乗せてAFM-IR測定を実施できる大型サンプル対応モデルです。

高空間分解能のケミカルイメージングのほか、ナノスケールIR分光により、ナノ異物分析にも対応します。IRライブラリにも対応。8インチウエハだけでなく、152mmのフォトマスクサンプルにも対応

  • その他顕微鏡・マイクロスコープ

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単一周波数 CW DPSSレーザー 量子研究対応

コンパクトで安定性に優れた単一周波数ダイオード励起固体(DPSS)レーザー。ラマン分光、干渉実験、リソグラフィ、量子研究に最適

波長 320, 349, 532, 640, 780 nm、狭線幅 (< 0.5 MHz)、非常に小さい強度ノイズ (< 0.1% RMS)、回折限界 TEM00 ビーム。 独自の光学アーキテクチャとハーメチックシールドパッケージにより、長期間にわたって非常に安定した動作と性能を保持します。要件の厳しい組み込み用途で高い堅牢性と耐久性を発揮します。また、高い精度、安定性、スペクトル純度が求められる、ラマン分光、干渉実験、ホログラフィ、量子技術開発など、高度な研究用途にも最適です。

  • レーザー顕微鏡

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ファイバリコーター&プルーフテスター

ファイバーの融着部保護用にUV硬化樹脂を塗布・硬化、被覆を再構築する装置です。シリコン樹脂モールド使用しています。

再コーティング材料とファイバコーティングサイズを簡単に変更できる柔軟性です。シリコン型は80~900μmのコーティングサイズに対応し、サイズのカスタムも可能です(900μm以上のコーティングサイズにも対応)。リコートの長さは34~100 mmです。 ※詳しくはお問い合わせください。

  • その他加工機械

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ファイバー ストリッピング&プリパレーション

アクリルコーティングを除去し、ファイバの強度と完全性を維持したまま残渣を除去するストリッピング、ファイバプリパレーションシステム

完全自動プロセスでアクリルコーティングを除去。ファイバの強度と完全性を維持したまま残渣を除去します。 ※詳しくはお問い合わせください。

  • その他加工機械

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レーザー・ファイバ融着機器

高出力・高感度な光学部品の製造向けに設計された汎用的な機器。CO₂レーザーによる加熱によるクリーン汚染のない融着を可能です。

ファイバ径 80 µm to 2500 µm、スプライスロス < 0.1 dB。CO₂レーザーを使用した加熱によるクリーンで汚染のない融着が可能です。、ガラス加工ソリューションにも対応。 ※詳しくはお問い合わせください。

  • その他加工機械

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光ファイバ端面検査装置

光ファイバの端面品質を検査し、切断工程最適化する高精度干渉計

クラッド径: 125 – 1200 µm、ファイバコーティング: 250 – 1500 µm、3D画像生成対応モデルもご用意。 ※詳しくはお問い合わせください。

  • その他検査機器・装置

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量子実験向け 単一光子源

量子アプリケーションのために設計された決定論的に単一光子を生成する固体の単一光子源です。

独自の平面設計 量子エミッタチップは、90%超の高効率でチップに沿って量子光を導きます。制御された電場を適用。通常、量子ドットの発光整合性を低下させる残留電荷をトラップすることで、極めて低ノイズな環境を実現しています。 ※詳しくはお問い合わせください。

  • その他計測・記録・測定器

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ファイバクリーバー

クラッド径80~1000μmの範囲で光ファイバの高精度切断に対応。大量生産環境で安定性と高い生産性を実現します。

標準・LD光ファイバの切断時に平坦なファイバ端面を得るための様々なモデルを備えた包括的な製品です。クラッド径80~1000μmの範囲で、標準・特殊・大口径光ファイバの高精度切断に対応するために、種々のモデルがそれぞれ最適化されています。自動切断プロセスによる、大量生産環境における安定性と高い生産性です。低メンテナンスで長期間の稼動が可能。自動生産システムへの組み込みも容易なオープンなインターフェイスを採用しています。

  • その他加工機械

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高エネルギー OPO 波長可変レーザー

高エネルギー120mJ 波長可変 210~3450nm。繰り返し周波数10 or 20 Hz。パルス幅 5-7ns。

RADIANTシリーズ 特許OPO技術を用いた波長可変レーザーで、UVから近赤外の広範囲に対応。コンパクト設計での高い耐久性と最小のアライメントずれを実現内蔵のアライメント検証機能でシステム移動後の位置決め作業が不要です。 ※PDFカタログをダウンロードいただけます。詳しくはお問い合わせください。

  • レーザ部品

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UV 可視光 近赤外 中赤外対応 小型波長可変レーザー

世界最小クラスの波長可変レーザー。UV、 可視光 、近赤外 、中赤外の波長域に対応。堅牢な設計。お客様で設置可能です。

波長可変レーザー Opolette UXシリーズ特徴 ●フラッシュランプベースの励起レーザーでほぼメンテナンス不要 ●ポンプレーザー波長 (1064nm、532nm、355nmの全てかまたどれか一つ)へのアクセスが可能 ●交換可能なフラッシュランプ( 寿命5000万ショット )とDIカートリッジ ●エンドユーザーによるアラインメント検証が可能

  • レーザ部品

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中空コア 光学バンドギャップファイバ 

光パワーの保持率98%以上で、ガスまたは粒子の充填が可能。センシング、イメージング、超短パルスアプリケーションに最適。

非線形効果や材料損傷なしに超短パルスを伝送し、厳しい曲げにも耐えることが可能。過酷な放射線環境にも適しています。    ●コア内の光パワー:>98%以上 ●ガスまたは粒子充填可能 ●超低曲げ損失 ●端面で低フレネル反射 ●単一に近い群指数  ●放射線環境にも使用可能 ※詳しくはお問い合わせください。

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