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弊社ダウンストリーム型プラズマ装置は処理時に生ずる種々のダメージ等を排除し、 クリーン処理、かつ、スムース表面での接着が可能で、５G,６G向けFCCL製造関連等や、 2次電池市場でのカーボンフィルム等、電極製造関連の異種材接着、接合時のドライ前処理に適しています。 また、接合界面材質に見合った結合分子を、添加ガスの変更やプラズマパラメータの最適化により、 界面に対し、選択的に機能性分子（共有結合分子等）付与できます。 困難なPFAやPTFE表面親水化に於いても、接触角を10度以下にすることも可能です。 ※弊社ラボにてサンプルワークも実施しております。 【掲載内容】 ■基本的概念 ■メリット ■処理イメージ（R to R） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
株式会社イー・スクエアは2001年に大気圧プラズマ装置をリリース以降、1200台以上（2021年時点 国内外表示デバイス市場・その他）の販売実績を誇る大気圧プラズマ装置専門メーカーです。 今回「ワーク表面」や「電子デバイス」にダメージを与えない表面への機能性付与の新提案です。 【掲載内容】 ■はじめに～背景 ■プラズマ処理形態 ■大気圧プラズマ装置から発生する種々のダメージ ■現在の開発テーマ ■最後に 本資料では、大気圧プラズマ使用時の各種ダメージとその原因、電極構造の関係とダメージレス表面機能化やナノレベルの詳細について記載しております。 ※詳細はPDFをダウンロードいただくか直接お問い合わせ下さい。
大気圧プラズマ装置を用いたミリ波に対応するFCCL製造関連に適した伝送ロスを排除した接着技術であり、分子結合を利用した接着剤レス接着であるため信頼性が高く、ワーク表面のフラットな状態をキープしながら、フッ素樹脂やその他フィルムとの異種材接着を実現している。 使用ガス種の変更により選択的に共有結合分子を選択でき、接着相手側との最適化を実現。 また、既存接着強度の向上にも適用可能です。 本資料では、「ダウンストリーム型大気圧プラズマ装置」を使った、 接合・接着の概要や必要な前処理、活用メリットについて紹介しています。 【掲載内容】 ■基本的概念 ■メリット ■プラズマ処理のイメージ図 ※PDFダウンロードよりご覧いただけます。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
大気圧プラズマ装置による課題解決事例をご紹介いたします。 この度、フッ素樹脂（PTFE、PFA）への表面改質を 5 度近傍（純水での接触角）に成功しました。 従来 50 度近傍が最大値でしたが、 今回レシピ等の最適化等に伴い実現いたしました。 テフロン表面のC・Fの架橋をプラズマで切断後、それぞれに親水基または官能基で終端させることで 超親水化を実現しました。 今後、６G 向け FCCL 銅箔等へのダイレクト接着にも寄与すると確信しております。
大気圧プラズマ装置での粒子の分散性、粒子への親水化、 金属粒子への表面還元を高効率に処理ができる方法を開発しました。 ダウンストリーム型で幅広、長尺ワークへの有利な処理方法を生かした構造を 利用し、ラジカルをキャビティ内部に閉じ込め、ワークと撹拌することで、 より効率的な表面処理を可能にしました。 ワークに対して電気的・電磁波ダメージや、UVダメージを完全に排除しているため、 金属粒子への表面改質はもちろん、ワーク表面へのダメージは皆無。 このため、処理後ワークへの帯電は生じません。 【特長】 ■ダウンストリーム型で幅広 ■長尺ワークへの有利な処理方法を生かした構造 ■ワークに対して電気的・電磁波ダメージや、UVダメージを完全に排除 ■プラズマ照射幅（100mm～2000mm）の幅で製作可能 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
当ページでは、コロナ処理や、アーク等を用いた装置ではなく、 完全なるバルクプラズマを発生させた大気圧プラズマ装置を主体に置き、説明しております。 ワーク（被処理物）の性格や、次工程への状況を踏まえ、 大気圧プラズマ装置選定時の最適化のご参考になれば幸いです。 酸素ラジカルやOHラジカルなどでのドライ洗浄や、官能基等の親水処理化など、接着材を用いない接着剤レス接着に関して、銅箔、基材間との分子結合を主体とし、エッジ効果を排除した接着が可能で、今後の5G、6G向けのFCCL等プリント基板や実装工程に寄与できるものと考えます。 また、リチュウームイオン電池への電解液含浸プロセスの時短、電極形成時の異種材接着へのダメージレスダイレクト接着工程への応用。 詳しくは、下記の関連リンクよりご覧ください。 【掲載内容】 ■使用目的（大気圧プラズマ装置で可能な処理） ■大気圧プラズマ装置の処理形態を大きく分類すると3種に大別される ■被処理物とプラズマ形態 ■当社独自の装置特長（ダウンストリーム型） ■誘電体バリア（DBD）放電の内部模式図 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
ここではコロナ処理や、アーク等を用いた装置ではなく、 完全なるバルクプラズマを発生させた大気圧プラズマ装置を主体に置き、説明しております。 特殊電極構造を用い、窒素ガス・希ガス等をベースに高周波電力を電極に印可し、 高密度プラズマを発生させることによりが生成された高密度の活性種が ワーク表面に官能基や水酸基、アミン基を付与し、 濡れ性や、塗布性能、有機物除去等の処理が可能になります。 添加ガスを変えることにより、選択的に付与される分子を生成され、 撥水化、還元等、薄膜体積、ドライエッチング等の処理が可能になります。 また、洗浄工程や、メッキ処理時前にプラズマ処理を行うことで、 処理表面を活性化し薬液との反応性を高め洗浄性能の向上や 気泡の除去等に役立ちます。 処理に関してワークの性格や、次工程への状況を踏まえ、 下記に纏める大気圧プラズマ装置選定時の最適化のご参考になれば幸いです。 また、接着材を用いない接着剤レス接着に関して、 銅箔との分子結合を主体とした接着技術が伝送ロスを低減し、 ５G、６G向けのFCCL等の製造に寄与できるものと考えます。
弊社の大気圧プラズマ装置『Precise』は、 プラズマ処理により正・負電極部やセパレータへの表面を活性化することで、 リチウムイオン電池への電解液の注入含浸時間の短縮が可能。 また、同処理はプラズマ発生部から隔離され、 ラジカル種のみの処理となる為、表面へのダメージ等は全くありません。 ワークの表面に表面活性化させ、親水性を持たせることで、 対向面との毛管現象の効果にて、 電解液の注入時間短縮が期待できます。 もし、ご興味をお持ちいただけましたら、一度お問合せいただけますと幸いです。
大気圧プラズマ装置を利用した５G・６G向けプリント基板やFCCL製造プロセスに寄与します。 弊社の『Precise』はプラズマ発生部を処理部と分離されているため（ダウンストリーム型）、 処理方面にダメージを与えずに、分子結合を主体に表面に官能基・水酸基を付与することで、 液晶ポリマー（LCP）やフッ素樹脂へ、滑らかな表面のまま、ダイレクトに接着が可能です。 弊社プラズマ処理における接着・接合は分子結合を主体としいるため、 表面へのダメージや、プラズマによるＵＶ光等からの科学的ダメージは全く無い処理が可能。 種々のフィルムへのダメージレスダイレクト接着のサンプルワークを実施しております。 弊社実験データでは、その接着強度は９N/cm（Ｃｕ／ＬＣＰ）以上を実現。 Ni表面への接着強度向上に関しては表面にアミン基を配列することにより向上します。 これらの処理は添加ガスを変えることで簡便に実現できます。
５G・６Gを支える基板の材料として注目されているフッ素樹脂（PTFE・PFA）やLCPフィルムへの Cuメッキや直接接着が出来ます。 弊社の大気圧プラズマ表面処理装置『Precise』は、 プラズマ発生部を処理部と分離されているため（ダウンストリーム型）、 処理方面にダメージを与えることなく、分子結合を主体に 表面に官能基・水酸基を付与することで、液晶ポリマー（LCP）やフッ素樹脂（PTFE・PFA）へ、 滑らかな表面のまま、ダイレクトに接着することが可能です。 弊社プラズマ処理における接着・接合は分子結合を主体としいるため、 表面へのダメージや、プラズマによるＵＶ光等からの科学的ダメージは全く無い処理が出来ます。 また、プラズマ処理により正・負電極部やセパレータへの表面を活性化することで、 リチウムイオン電池への電解液の注入含浸時間の短縮にも効果が期待できます。 処理幅は100ミリから3000ミリを均一処理。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
ミリ波機器向FCCL市場に需要が急増している基板材料表面を粗面化せずに、 ダイレクト接着する技術が求められています。 弊社、ダウンストリーム型大気圧プラズマ装置における接着・接合は分子結合を主体としいるため、 表面へのダメージや、プラズマによるＵＶ光等からの科学的ダメージは全く無い処理が出来ます。 弊社の『Precise』はプラズマ発生部を処理部と分離されているため（ダウンストリーム型）、 処理方面にダメージを与えることなく、分子結合を主体に表面に官能基・水酸基を付与することで、 液晶ポリマー（LCP）やフッ素樹脂へ、滑らかな表面のまま、ダイレクトに接着することが可能です。 弊社プラズマ処理における接着・接合は分子結合を主体としいるため、表面へのダメージや、 プラズマによるＵＶ光等からの科学的ダメージは全く無い処理が出来ます。 また、プラズマ処理により、無電解メッキ前処理を行うことにより、触媒の分散性を向上させ、均一なCuメッキを実現します。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
『Precise』は、炭素繊維表面・チョップドファイバー・カーボンブラック等の粒子などに処理することで、表面の親水化、密着性向上などの効果を得られる大気圧プラズマ処理です。 プラズマソースと処理エリアの電気的な隔離を十分に行うことで、ワークに損傷なく、また処理後の静電気の発生もなく、表面改質を行えます。 また、サイジング前処理への応用ではリンス工程やその後の乾燥工程が不要になり、大幅なコスト削減に貢献するなど、表面改質以外の効果も期待できます。 【応用例とその効果】 ■サイジング前処理での密着性向上による使用でのコスト削減 ■サイジング後のアンカー効果 ■粉体への表面処理による、溶液への溶け込みと分散性特性の向上 ■異種接合・接着剤レス直接接合を実現 ※詳しくは資料をご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
大気圧プラズマ装置Preciseシリーズは、窒素ガスをベースとし、誘電体バリア放電を利用しワーク自体を電磁界エリアから隔離し、リアクター内で励起されたラジカル等のみを使用した装置です。 これによりワークへのダメージを与えない状態で連続処理が可能になりました。 また、ワークが帯電状態でも処理ごは除電され、処理後の気中のパーティクル付着はありません。 添加ガスを変えることにより、処理表面への官能基やOH基、アミン基等の結合分子の選択が可能で、次工程での接合条件の最適化が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
弊社の大気圧プラズマ表面処理装置『Precise』は、 プラズマ発生部を処理部と分離されているため（ダウンストリーム型）、 処理方面にダメージを与えることなく、分子結合を主体に表面に 官能基・水酸基を付与することで、液晶ポリマー（LCP）やフッ素樹脂へ、 滑らかな表面のまま、ダイレクトに接着することが可能です。 また、プラズマ処理により正・負電極部やセパレータへの表面を活性化することで、 リチウムイオン電池への電解液の注入含浸時間の短縮にも効果が期待できます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
大気圧プラズマ装置「AP Plasma Precise II」は、窒素ガスをベースとし、誘電体バリア放電を利用しワーク自体を電磁界エリアから隔離し、リアクター内で励起されたラジカル等のみを使用した装置です。 これによりワークへのダメージを与えない状態で連続処理が可能になりました。 また、ワークが帯電した状態でも除電され、処理後の気中のパーティクル付着もありません。 【特徴】 ○電極交換（誘電体部）不要 ○幅広処理（100ミリ～3000ミリ） ○ダウンストリーム型電極形式の為、処理面に対しダメージ発生がない。 ○2年毎のメンテナンスのみ 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
大気圧プラズマ装置 「Preciseシリーズ」は、窒素ガスをベースとし、誘電体バリア放電を利用しワーク自体を電磁界エリアから隔離し、リアクター内で励起されたラジカル等のみを使用した装置です。 これによりワークへのダメージを与えない状態で連続処理が可能になりました。 また、ワークが帯電した状態でも除電され、処理後の気中のパーティクル付着もありません。 【特徴】 ○低温処理 ○ダメージフリー ○ESDフリー処理手前でのイオナイザー装置が不要 ○2年間メンテナンスフリー ○小型軽量（他社比較：約体積比率1/2以下、約重量比率1/3以下） ○半永久的長期寿命の誘電体電極 ○パーティクルフリー ○幅広ワークへの均一処理 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
繊維束状用表面改質装置は、繊維束状物をターゲットにカーボンファイバー、ブラスファイバー、ポリマー系ファイバー等繊維束状物を束の中まで効率よく親水化処理が可能。 処理スピードに合わせたプラズマ処理幅を自由に設計することができ、処理室内部をプラズマ（ラジカル）を封じ込める構造により、束の内部まで均一に処理ができる。 処理後のワークに対して帯電しない。（特許申請中） 【特徴】 ○プラズマを封じ込めた構造による、束状の繊維一本一本への効率的な親水化処理 ○高い信頼性 ○ダメージレス処理 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
株式会社イー・スクエアは、1999年08月 IC製造等で排出されるPFC（パーフロロカーボン）を除去するプラズマ除去の応用で地球環境への社会貢献を目的として設立されました。 2001年10月、大気圧プラズマ装置を利用した表面改質処理装置の開発に着手。 大気圧プラズマ装置によるレジストの剥離実験が、LCD製造工程に多用される表面改質装置へと繋がり、2002年08月 表面処理装置が完成、さらに、コーティング・フィルム・プリント基板業界への進出を決定する契機にもなりました。 イー・スクエアは、超小型･軽量で高い信頼性と高密度プラズマ発生を有した 常圧Plasma表面処理装置 『Precise II』の開発、製造、販売後、累計1200台以上（2021年）の販売実績を有します。 【特徴】 ○新しくなったPreciseシリーズ ○他社を凌ぐ改質性能(高密度プラズマ発生) ○ダメージフリー・パーティクルフリー ○超小型・軽量(Preciseシリーズ) 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
