【特徴】 ○高強度 ○耐摩耗性 ○耐熱性 ○大型形状可能 ○比較的安価 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

【特徴】 ○高精度：平面度0.2μm,L/F0.1μm以下 ○材質選択性：結晶化ガラス、SiC、導電性セラミックス ○形状制御：ウエハーの形状に応じたチャック形状 ○低パーティクル性：ポアフリー、Double-Polishing ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

【特徴】 ○Zero thermal expansion type ESC 　・高精度　平面度＜100nm(8インチ) 　・ポアフリー化対応 　・高比剛性 　・非磁性 ○Built in Heater type ESC 　・ジョンセン・ラーベック型 　・8・12インチ対応 　・電極パターン　単極、双極選択可 　・面状発熱体内蔵により優れた面内温度均一性 ○Spray coat type ESC 　・低インピーダンス 　　高熱伝達（熱通過）モジュールの実現 　・MMC基材による大型化の実現 　　溶射膜との熱膨張マッチングにより、信頼性の高い静電チャックが製作可 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

【特徴】 ○ポーラスと基台が一体構造 　独自の技術により、基台とポーラス体の界面は、一体構造を有しています。 　これにより、非常に優れた吸着面の平面度を得ることが可能になります。 ○豊富なポーラス体ラインナップ 　お客様の用途に合わせて材質を選択でき、気孔径及び気孔率は、以下の範囲で制御可能です。 　　・材質：アルミナ、炭化ケイ素 　　・気孔径：5、10、30、70μm 　　・気孔率：30～60％ ○形状は自由自在 　丸型でも角型でもお客様のニーズにお応えします。 　通気溝パターンも任意に形成可能です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

【特徴】 ○低熱膨張 ○高剛性 ○非磁性 ○再結晶化ガラスに代わり、ナノレベルの制御が求められる半導体製造装置（ウエハ露光、レチクル描画等）に対応 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。