カセット洗浄装置「モデルTCC-803」は、ハイエンド、高付加価値製品の製造プロセスで用いられるウェハーカセット、キャリアー、ボックス等の精密洗浄を 目的とした少量多品種生産用途のコンパクトな洗浄装置です。 ■特長： ・精密洗浄：ワークに上下、左右回転動作機能を持たせ隅々まで精密洗浄 ・強力洗浄：ウェハー収納ミゾ部全面に対し直角スプレーを実施 ・省スペース：縦型設計で、小フットプリントを実現

■主な特長 ・ワークの スクラブ洗浄 ・ リンス ・ 乾燥 を一台の装置でスピーディーに行う ・特殊洗浄ブラシにてワークに傷を付けず洗浄ムラなく精密洗浄を行う ・縦型処理の為、ワークにストレスがかからない ・少量多品種、Ｒ＆Ｄ用途の基板洗浄にも好適 ・各サイズ専用ワークホルダーの用意とフリーサイズ対応ワークホルダーをご用意 ・ワーク接触部分は、樹脂にて対応 ※各種オプションも用意。 ※カスタム対応等、詳細はお気軽にお問い合わせください。

■主な特長 ・ワークの【スクラブ洗浄・リンス・乾燥】を一台の装置でスピーディーに実施。 ・スクラブ洗浄用特殊ブラシにてワークに傷を付けず、洗浄ムラなく精密洗浄可能。 ・縦型処理の為、ワークにストレスがかからない設計。 ・少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適。 ・乾燥は、ホット純水乾燥。

■主な特長 ・ワークの スクラブ洗浄 ・ リンス ・ 乾燥 を一台の装置でスピーディーに行う ・特殊洗浄ブラシにてワークに傷を付けず洗浄ムラなく精密洗浄を行う ・縦型処理の為、ワークにストレスがかからない ・少量多品種、Ｒ＆Ｄ用途の基板洗浄にも最適 ・各サイズ専用ワークホルダーの用意とフリーサイズ対応ワークホルダーをご用意 ・ワーク接触部分は、樹脂にて対応 ※各種オプションも用意。 ※カスタム対応等、詳細はお気軽にお問い合わせください。

■主な特長 ・100,000,000円前後のマスク代を毎年削減※ ・マスクに付着したレジストを簡単に除去 ・マスクに付着したパーティクルを簡単に除去 ・マスクは消耗品から永久使用へ ・洗浄液は環境にやさしいマイルドな水溶性薬液を開発 ・熱硫酸や硫酸過水などの危険から解放 ・高価なリムーバーや現像液なども不要

各ユニットは『ケミカルユニット』『スクラブユニット』『ドライユニット』があります。

■主な特長 ・高密度ＵＶグリッドランプを使用。 ・ワーク面に対して照射が均一。 ・省スペース、コンパクト設計。 ・シンプルなユーティリティー。 ・両面洗浄、片面洗浄の対応が可能。 ・簡単操作、セーフティー機能内蔵。