テクノビジョンの製品・サービス一覧

『高度清浄化をサポートする高度な洗浄ノウハウを凝縮！』 多様化する半導体デバイス、ナノ領域に入ったデザインルール、益々高度化する環境の中で求められる更なる歩留り向上、これらの問題をクリアーするソリューションの一つにコンタミネーションコントロールが最重要課題として位置付けられています。 テクノビジョンが提供するカセット洗浄装置「モデルTCC-803」は、この様な高度清浄化をサポートする高度な洗浄ノウハウが凝縮されています。

スクラブ洗浄・リンス・乾燥を1台で実行 テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。 弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した洗浄装置、TWE-200、TW-300、TW-700、TW-1000 をご提供しています｡

マスクに付着した1μm以上のパーティクルを除去する簡易型のマスク洗浄装置。 2槽式のマスク洗浄装置で、1槽目で専用ブラシによるスクラブ洗浄と リンスを行い、2槽目ではホット純水乾燥を行う簡易型のマスク洗浄装置です 1層目のスクラブ洗浄において、専用薬液による洗浄もオプションとして提供しております。専用薬液を使用すると、レジスト残渣を除去することも可能になります。

テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。 弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズからラージサイズまでの幅広いフォトマスクに対応した洗浄装置、TW-200、TW-300、TW-700、TW-1000 をご提供しています｡

TWC-200Aは露光工程で使用されるマスクの洗浄に特化して開発されました。 本装置の特長はマスクに付着したレジストとパーティクルを一挙同時に全自動で除去する点にあります。 特にレジスト除去に関しては大手薬品メーカーと共同で専用洗浄剤を開発し、除去効果を大幅に向上させるとともに安全性や地球環境にも配慮しました。 オペレーターはマスクを装填したカセットを乗せるだけ。 危険な薬品に曝される事も無く安全性を高め、露光プロセスの品質向上と歩留まり向上に大きく貢献いたします。

お客様のご使用環境から必要なユニットをチョイスしマスク洗浄を行えます。 ■主な特長 ・7インチまでのマスク洗浄に使用できます ・研究開発用途や少量のマスク洗浄に最適 ・既存の装置と併用し必要なユニットを選択 ・設備投資で予算が厳しい場合にもおすすめ ※カスタム対応等、詳細はお気軽にお問い合わせください。

紫外線オゾン洗浄装置は、特定波長の紫外線を照射しオゾン（O3）を生成、その生成したオゾンを利用し有機化合物を酸化・分解させることで、 ワーク表面の有機物汚染の除去、表面改質を行うUV洗浄装置です。 テクノビジョンの提供する紫外線（UV）オゾン洗浄装置UV-208、UV-312は、UV光源に高密度グリッド形状の低圧水銀ランプを採用し、 ワーク全エリアを均一に照射することができ、複雑な機構を必要としない、シンプルなドライ洗浄装置です。 ファイナル洗浄として威力を発揮します｡