ヤシマの製品・サービス一覧

「ユニフォームプラズマスパッタ装置」はいわゆる対向ターゲットスパッタ方式を採用しています。従来の対向ターゲットスパッタ方式はミラー磁場をそのまま利用したものですが、ミラー磁場の特性を生かしつつスパッタリングすることを目的として改良されています。 ミラー磁場を利用したプラズマ閉じ込め方式をスパッタに利用するのはとても有効で、スパッタ利用のためにその形態を大きく変える必要がなくターゲットを2枚対向させることでそれらの間にプラズマが大変効率よく閉じこめられます。これに対しトロイダルコイルなどを利用したプラズマの閉じ込め方式ではトカマク型がありますがこれをスパッタに利用するには困難で、現状では通常トロイダルコイルを輪切りにしたような形態を利用しています。この場合ドリフトが発生しプラズマが十分に閉じ込められず容器内で広がってしまいます。 しかしながらミラー磁場というだけではスパッタに利用した場合ターゲット間でのプラズマ閉じ込めには有利ですが均一性は期待できません。 そこでプラズマ閉じ込めと均一性を両立させたのがユニフォームプラズマスパッタ装置です。

• その他金属材料
• 有機EL

当社は30年以上真空技術に携わり、ユーザー様の仕様に合わせた製品を 主に研究機関に提供してまいりました。 2系統のガス導入が可能な「RFマグネトロンスパッタ装置」や 安価で手軽に薄膜作製が可能な「小型真空蒸着装置」など 真空成膜装置を多数ラインアップ。 その他「真空チェンバー」や「ターボ真空排気装置」などの 各種研究用装置もご用意しております。 ご用命の際はお気軽にご相談ください。 【特長】 ＜真空成膜装置＞ ■装置の拡張性を考慮 ■経済性なシステムとなるよう設計 ■簡易・小型のものから1mを超えるターゲットサイズも対応 ■実験から生産まで幅広い分野で実績あり ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 蒸着装置
• スパッタリング装置
• 真空機器

高融点材料の真空蒸着には電子ビーム蒸着装置が定番です。 弊社では弊社オリジナルだけでなく各社の蒸着ソースに対応します。 電子ビームを安定させる高真空・超高真空の環境を提供します。 基板ヒーター、回転など対応します。 ロードロック仕様に対応します。 シーケンサ・タッチパネルによる手動/自動運転も対応します。

• 蒸着装置

容器寸法：φ150×200H、排気系：2インチ拡散ポンプ(LN2付)+ロータリポンプ20L/min。メインバルブには2インチサイズを採用しポンプの排気能力を有効に引き出します 。真空容器の金属部、メインバルブ、3方バルブ、リークバルブはステンレス材を採用しています。

• その他表面処理装置

●　価格500万円(税込み) ●　φ3インチターゲット　1元カソード ●　RF300W電源、自動マッチングボックス付 ●　ガス系統：1系統(オプションにて3系統まで対応可)、 　　マスフローコントローラーによる調整 ●　酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ●　オプションにて基板ヒーターの取付可。 ●　余分なものを省きながら使いやすいシンプルな構造。 ●　800W×600L×900Hの省スペース

• プラズマ表面処理装置
• 有機EL
• スパッタリング装置

真空用ビューポートです。真空チェンバー内部までガラス窓を直接導入することができます。窓は板ガラスを使用していますので歪が少なく抑えられます。有効視野はICF114を使用した場合、約φ52です。窓材質：コバールガラス

• ガラス

●セラミックスとあらゆるメタルを接合する高度な技術 ●高純度アルミナを使い優れた絶縁性 ●超高真空用途に対応 ●しかも安価

• その他理化学機器