【出展情報】ドイツSONOSYS社が「SEMICON Japan 2026」に出展します

ウェーハの微細な汚れを徹底除去。ソノシスが実現する高品質洗浄。

半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面に付着した微細なパーティクルや有機物は、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化を引き起こす可能性があります。当社の超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、メガソニック技術を用いてウェーハ表面の汚れを効果的に除去します。これにより、高品質な半導体製品の製造を支援します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における洗浄 ・微細な異物や有機物の除去 ・高品質な半導体製品の製造 【導入の効果】 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善 ・製品の信頼性向上

• 超音波発振器
• フォトマスク
• 超音波洗浄機

プリズムの精密洗浄に。ソノシスの超音波洗浄装置。

光学業界では、プリズムの品質を左右する精密な洗浄が求められます。 特に、微細な埃や油膜の除去は、光の透過率や屈折率に影響を与え、製品の性能を低下させる可能性があります。 当社の超音波メガソニック洗浄装置は、プリズムの表面に付着した微細な汚れを、メガソニックの力で徹底的に除去し、高品質な製品作りに貢献します。 【活用シーン】 ・プリズム製造工程における洗浄 ・光学レンズの洗浄 ・精密部品の洗浄 【導入の効果】 ・高い洗浄力で、製品の品質向上 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄コストの削減

• 超音波発振器
• フォトマスク
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最新の超音波洗浄はソノシスにお任せください

超音波洗浄スプレーノズル 非接触単一基板の洗浄にはシングルノズル、デュアルノズル、トリプルチャネルのいずれか、および周波数の任意の組み合わせを備えた600kHz から最大9MHzまでのメガソニックノズルがございます。 このメガソニックノズルのトランスデューサーはメガソニックを生成し流体(純水など)を通してメガソニックを基盤の表面に送り洗浄します。 メガソニック浸水型トランスデューサー 周波数が400kHz/600kHz/1MHz/2MHzのメガソニック浸水型トランスデューサーです。　　　　 ステンレス製又はプラスチック製 (例：PP、PVDFまたはPFA)の密閉されたトランスデューサーを既存タンクの底部又は、側面に設置します。 4"、6"および8"の基板サイズの標準システムに加え、特注で浸水型トランスデューサーも可能です。 非常に順応性の高い構成によりメガソニックシステムをバス・タンク式洗浄の工程に使用することで費用対効果の向上を可能にします。 周波数は400kHz, 600kHz, 1MHz と2MHzをご用意しております。

• CVD装置
• ＣＭＰ装置
• フォトマスク

ウェーハ洗浄の課題を解決する、ソノシスの超音波洗浄

半導体業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、ウェーハ製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善

• 超音波発振器
• 超音波洗浄機
• 超音波洗浄器

MEMSデバイス製造の表面清浄化を、ソノシスの超音波洗浄で

MEMSデバイス製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、MEMSデバイス製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・MEMSデバイス製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善

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• 超音波洗浄機
• 超音波洗浄器

ウェーハ洗浄の課題を解決する、ソノシスの超音波洗浄

半導体製造業界、特にウェーハ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。ウェーハ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、ウェーハ製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善

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光学レンズの精密洗浄を、ソノシスの超音波洗浄で

光学レンズ製造においては、微細な異物や残留物の除去が製品の品質を左右する重要な課題です。レンズ表面のわずかな汚れが、デバイスの性能低下や歩留まりの悪化につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、これらの課題に対し、高い洗浄力と均一な洗浄を実現することで、光学レンズ製造における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・光学レンズ製造工程における異物除去 ・精密部品の洗浄 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善

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CMP工程のスラリー除去に、ソノシスの超音波洗浄

CMP工程では、ウェーハ表面のスラリー除去が、製品の品質に影響を与える重要なプロセスです。ウェーハ表面に残存したスラリーは、後工程での欠陥や歩留まりの低下につながる可能性があります。ソノシスの超音波メガソニック洗浄装置は、高い洗浄力と均一な洗浄を実現し、CMP工程における品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・CMP工程におけるスラリー除去 ・ウェーハ製造工程における異物除去 ・薬液洗浄後のリンス工程 【導入の効果】 ・洗浄時間の短縮 ・洗浄品質の向上 ・歩留まりの改善

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次世代メガソニック技術で最大300mmウェハーも一瞬でクリアに

SONOSYS社製1MHzメガソニックシステム（FTFトランスデューサー & MGHジェネレーター）は、単一基板の洗浄プロセスを最適化する高性能システムです。 主な特長を以下の通りです。 - 高精度洗浄: PFA製の密閉型トランスデューサーが基板から約1.5mmの距離で設置され、メガソニックエネルギーを均一に伝達 - 特許技術採用: 「バタフライ圧電セラミック」技術により、従来のシステムと比較して最大40%高い音圧、最大30%高い効率を実現 - シングルプロセス対応: 最大300mmの基板やウェハーの洗浄に適用可能 - 高出力仕様: 150Wの出力調整範囲（約20%～100%）を持ち、1MHzの超音波を活用 - 安定した動作環境: 筐体は19インチエンクロージャーでコンパクトな設計 - 動作温度範囲は+10℃～+40℃ - 耐久性と適応性: 最大+80℃までの液体温度に対応（窒素冷却使用時） - PTFEコート同軸HFケーブル（3m）採用 - 精密設計: 設置距離は約1.5mm（1MHz時）、基板の最低液層厚は約4mm

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• その他半導体製造装置
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Digital Generatorは半導体、電子部品、精密機器向けメガソニック洗浄システムに対応したデジタル制御型ジェネレーター

Sonosys Digital Generatorは、メガソニック洗浄向けに開発された次世代デジタルジェネレーターです。 400kHz～9MHzの広帯域周波数に対応し、最大35W・最小0.35Wの高精度出力制御を実現 Modbus通信による遠隔監視・遠隔制御機能を搭載し、出力、温度、運転状態をリアルタイムに可視化できます。 さらに既存のSonosysノズルとの互換性を備え、設備更新コストを抑えながらスマートファクトリー化を推進します。 半導体洗浄、電子部品洗浄、精密部品洗浄の品質向上とDX推進に貢献する革新的なソリューションです。

• ウエハー
• フォトマスク
• その他半導体製造装置

レヒラー社のノズル技術とソノシス社の超音波技術のコラボ商品

水や薬剤などの液体を、まるで霧のように細かく噴霧できる装置をご存じですか？ SONOSYS（ソノシス）の超音波アトマイザーは、従来の圧縮空気式ノズルとは異なり、「超音波の力」で液体を繊細なミスト状に変えることができます。 SONOSYSの超音波アトマイザーは、次のような幅広い用途に対応しています： 製品や原材料の加湿（乾燥防止） 液体のガス置換や脱気 離型剤（型から製品をはがしやすくする液）の噴霧 混合・撹拌工程中の液体添加 消毒液の噴霧 ポイントは「空気を使わずに霧を作る」 従来の噴霧ノズルは、圧縮空気が必要だったため「音がうるさい」「エネルギーコストが高い」といった問題がありました。 しかし、超音波アトマイザーは空気を使わず、静かで省エネ。 しかも粒子が非常に細かいため、均一な加湿や噴霧が可能です。 最後に 「水や薬剤を静かに、均一にミスト化したい」「限られたスペースでも使いたい」そんなニーズをお持ちの方に、超音波アトマイザーは最適です。 工場、医療、研究、農業、様々な分野での活用が進んでいます。

• 超音波発振器
• ノズル
• コーティング機

弊社は、「第36回日本医療薬学会年会」の併催薬科機器展示会に参加いたします。 皆様のご来場を心よりお待ちしております。

[講　師] 株式会社KKRコンサルティング 代表取締役 行政書士法人 KKRコンサルティング 代表社員 山田純也税理士事務所 所長 税理士・行政書士 山田 純也 氏 税理士 池田 美香 氏 [講演項目] 【１】最新の再エネスキームについて 【２】令和8年度創設　生産性向上設備等投資促進税制の詳細解説 【３】再エネ発電設備と蓄電池に活用できる補助金の解説 　１．国の補助金 　　（１）ストレージパリティ補助金 　　（２）営農地、カーポート等補助金 　　（３）地域レジリエンス補助金 　　（４）倉庫業者向け補助金 　　（５）ペロブスカイト太陽電池補助金　 　　（６）系統用蓄電池等導入支援補助金 　２．関東を中心とした自治体の補助金 　　東京都、神奈川県、千葉県、埼玉県、栃木県、茨城県、群馬県等 【４】再エネ発電設備と蓄電池に活用できる税制の解説 　１．中小企業経営強化税制による即時償却等 　２．カーボンニュートラル税制（大企業適用可） 　３．先端設備等導入計画による軽減制度 【５】質疑応答／名刺交換

[講　師] （株）ICTソリューション・コンサルティング 代表取締役社長／AIアーキテクト 冨永 孝 氏 [講演項目] 第1章：今の時代をどう捉えるか 　-5つのニュースと合理主義OSの終焉（資本・生命力・管理の逆転現象） 第2章：企業が抱えている本質的課題 　-人材を『家畜化』する古い組織構造の解体と、会社の「生命体モデル」への転換 第3章：新たな組織マネジメント（破壊者たちの解剖） 　-イーロン・マスク、ドナルド・トランプに学ぶルール再定義の力学／自社を丸裸にする25の問診票 第4章：ハイブリッドマネジメントのあり方（フィグネティクス） 　-「西洋の論理（構造）」×「東洋の生命観（循環）」の統合／AIのウェポン（武器）化／他力本願のシステムデザイン 質疑応答／名刺交換

[講　師] NECネッツエスアイ株式会社 キャリアソリューション営業本部 第二営業部 シニアパートナー 赤崎 好伸 氏 [重点講義内容] データセンターにおいては、AIサーバーの進化により、高性能のサーバーは消費電力も飛躍的に増えており、この性能を引き出すためには、水冷等で的確に冷却する必要がある。しかしデータセンターの冷却は、建物に付随するファシリティ部分と、サーバー等のIT機器を一体で考慮する必要がある。 本セミナーでは、データセンターの冷却において考慮すべきポイントと冷却システムにおける課題、解決について、液浸冷却における実証結果もふまえ解説する。 [講演項目] １．はじめに（データセンターの省エネの現状） ２．液浸冷却システムを活用したデータセンター実現に向けて取り組んだ経緯 ３．液浸冷却液冷冷却技術について ４．液浸の実証実験の概要 ５．実証実験で明らかになった効果 ６．社会実装に向けた課題と解決策 ７．おわりに社会実装を含めた今後の展望 ８．補足 ９．質疑応答／名刺交換

11月18日（水）～20日（金）にインテックス大阪にて開催される「Japan IT Week 関西」に出展いたします。 弊社ブースでは、産業用途に特化したPC製品を幅広く取りそろえ、 CPUボードや組込み用のファンレスPCをはじめ、ボックス型PC、パネルPC、堅牢タブレット、POS・KIOSK製品をご紹介いたします。 自社開発・設計・製造の強みを活かし、高い信頼性と長期供給への対応を通じて、 お客様の製品開発から実際の運用まで、さまざまなニーズにお応えするソリューションをご提案いたします。 ～プロテックジャパンの主な展示製品～ 1．CPUボード 2．ファンレス・ボックスPC 3．パネルPC 4．堅牢タブレット 5．POS・KIOSK製品 当日は実機を通じて各製品の特長をご覧いただけるほか、 導入をご検討中の案件や具体的な仕様・構成に関するご相談も承ります。 事前登録は以下の「詳細・お申し込み」よりご登録いただけます。 皆様のご来場を、社員一同心よりお待ち申し上げております。