クオーバ&ハイメガソニックを使用した半導体ウエハ洗浄装置
半導体ウエハの石英槽を用いた間接洗浄にクオーバやハイメガソニックが用いられています。特にハイメガソニックは高洗浄力や機能が評価され、1986年の出荷以来、世界中で使用され御好評をいただいております。 またクオーバは先進のダメージ低減機能を搭載しています。
半導体ウエハの石英槽を用いた間接洗浄にクオーバやハイメガソニックが用いられています。特にハイメガソニックは高洗浄力や機能が評価され、1986年の出荷以来、世界中で使用され御好評をいただいております。 またクオーバは先進のダメージ低減機能を搭載しています。
