本製品は、平行平板型のプラズマ処理装置です。
本製品は、平行平板型のプラズマ処理装置です。コントロール・パネル上の操作のみでDP（ダイレクトプラズマ）モードとRIE（リアクティブイオンエッチング）モードの２つのプラズマモードを切り替えられ、BGAなど実装プロセスでのダイアタッチの接着性改善・封止性改善など、多様なプロセス用途に利用できます。
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基本情報
【仕様】 ○処理方式 平行平板プラズマ励起方式（ＤＰ／ＲＩＥ切替可） ○処理室 アルミニウム（A5052）製 ○ステージ段数 標準3ステージ（オプション 増設1ステージ対応可） ○チャンバー寸法 幅500×奥580×高500ｍｍ ○ステージ寸法 幅340×奥420ｍｍ ○ＲＦ電源 600Ｗ 13.56ＭＨｚ オートチューニング ○処理ガス O2、Ar（オプション 1ライン増設可） ○パージガス N2（スローライン有） ○処理ステップ 10レシピ（3ステップ） ○真空ポンプ ロータリーポンプ 1300L/min ○本体寸法 幅880×奥880×高1600ｍｍ ○本体重量 約400kg ●その他機能や詳細についてはお問い合わせください。
価格情報
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納期
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用途／実績例
【用途】 ○プラスチックパッケージ、ハイブリッドＩＣなどの表面改質 ○フォトレジストアッシング ○繊維や高分子材料などの表面改質 ●その他機能や詳細についてはお問い合わせ下さい
企業情報
株式会社エスクラフトは経験豊かなエキスパートエンジニアがお客様の御要望を形とし、優れた製品の供給を通して広く社会の進歩発展に貢献する企業です。
