弊社にてデモ可能! 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでCVD。 少量多品種に対応できます。
今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるSiO2製膜を大気圧下で行えます。 厚みは処理条件によりコントロール可能。(速度、液量、距離など) 今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、細かな条件変更を可能にし、製膜コストを安く抑える事が可能です。 操作はタッチパネルでの簡単操作。条件設定を記憶させる事で次回以降も同じ条件で製膜をする事が可能です。 プラズマ処理装置を用いた市場に類を見ない画期的な設備です。 量産用途からR&D用途まで多用途にお使いいただけます。 プラズマによる表面処理で濡れ性改質、そしてSiO2コーティングを同じ機械で行うことが可能です。 プラズマコートを行わない場合は通常のプラズマ処理機として塗装やインクの接着の前処理機としてもお使いいただけます。
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基本情報
装置は通常のスポット式プラズマ処理装置とコーティング剤供給ユニットの2つから成り立っております。 All-IN-ONEモデルとして3軸ロボットを内蔵し、 タッチパネルで操作出来るタイプもございます。 今まで大型真空CVD装置でしか生産できなかったSiO2膜を簡単にしかも大気圧下で製作できます。 弊社にデモ機を常備しており、日本国内でサンプル作成可能です。 またフランス本国と協力してより正確なサンプル作成もいたします。
価格帯
納期
用途/実績例
DLCの前処理、低摩擦性、SiO2層を介した接着性向上、撥水性、SiO2によるバリア膜
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