フォトファブリケーションを駆使！ファインパターンが形成可能！
今や、微細加工技術の１つとして、レーザビームを用いた加工処理は一般的となり、また、それを行う為の装置関連も飛躍的な進歩を遂げています。 いままで豊和産業株式会社では、そのような装置の部品としての光学製品を供給してまいりました。特に、反射ミラーにパターニング処理を施したレーザ用マスクは、パッケージ等へのマーキング及び微細穴あけ加工等の用途として多用されています。 フォトファブリケーションを駆使した製品ですので、ファインパターンを形成出来る事が特徴です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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基本情報
【特徴】 ○反射ミラーにパターニング処理を施したレーザ用マスク →パッケージ等へのマーキング及び微細穴あけ加工等の用途として多用 ○フォトファブリケーションを駆使した製品で、ファインパターンを形成出来る 【製品例】 ○各種半導体レーザ用全反射ミラー ○ハーフミラー ○YAGレーザマーキング用ガラスマスク ○エキシマレーザ加工機用ガラスマスク等 【構成】 ○基板：各種ガラス、金属等 ○表面処理 →AL、Cr、Cu、Au等の各種金属膜コーティング、誘電体膜コーティング →ガラスエッチング、サンドブラスト処理等 ○パターニング法 →薄膜エッチング、リフトオフ、 ガラスエッチング、サンドブラスト等 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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今後は益々、MEMSに代表されます様に、より高精度、より高緻密化が要求されるこの業界に於いて、研究開発部門は必要不可欠になるはずです。 弊社は、長年の培ったノウハウで試作・開発のお手伝いを致します。 電子・光学分野に限らず、あらゆる産業からのお問合せを期待しています。
