RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを搭載したイオンビームスパッタリング（IBS）装置です。
お客様用途に合わせて、研究開発用、量産用に装置設計いたします。 【装置特長】 ・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 高真空成膜可能 ・コンタミネーションが少ない ・無加熱成膜可能 ・高密度膜 ・反応性成膜可能 ・イオンビームアシスト追加可能 ・膜厚等の制御性良好
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●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 【装置仕様概略】 ・スパッタリング用イオンソース フォーカスグリッド ・アシスト用イオンソース デフォーカスグリッド ・シングルステージ ・ターゲットホルダー ・排気系 ・制御系 【オプション】 ・プラネタリーステージ ・膜厚計 透過型光学モニター 水晶膜厚計 ・全自動多層薄膜成膜ソフト
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企業情報
当社は1988年に真空薄膜製造装置の海外輸出商社としてスタートし、今日まで「真空技術のトータルプランナー」として、業容を拡大してまいりました。 この間、光学薄膜材料への展開、さらにはイオンビームプロセスや冷凍機(サップコールド)の販売に力点を置き活動をしてまいりました。 また、新たに次世代のナノ加工分野の重要な技術として期待されている、GCIB（ガスクラスターイオンビーム）プロセス装置を開発し、市場に投入する事になりました。 眼鏡やカメラレンズからスタートして、いまではデジタルカメラや携帯電話、医療用レンズを始め、光関連産業では新しい媒体が続々と生まれています。
