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最終更新日:2019年09月19日

アールエムテック株式会社
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イオンソースを搭載した実験用装置 精密光学の超薄膜多層成膜に活用可能

OSIの「イオンビームスパッタリング装置」は、お客坂の使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭載した実験用装置です。Veeco社の SPECTOR 相等の能力を発揮します。 RFイオンソースをスパッタ用およびスパッタ用/アシスト用として使用し、OMSまたはOTMソフトを搭載した精密光学の超薄膜多層成膜に適しています。 【特長】 ■イオンソースを搭載した実験用装置 ■Veeco社の SPECTOR 相等の能力を備える ■OMSまたはOTMソフトを搭載した精密光学の超薄膜多層成膜に最適 ■使用ニーズに合わせてカスタマイズ可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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小型研究用 イオンビームスパッタリング装置

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【用途】 ○イオンビームスパッタリング装置として →OMSまたはOTMソフトを搭載した精密光学の超薄膜多層成膜に最適 ●詳しくはお問い合わせください。

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 当社は1988年に真空薄膜製造装置の海外輸出商社としてスタートし、今日まで「真空技術のトータルプランナー」として、業容を拡大してまいりました。  この間、光学薄膜材料への展開、さらにはイオンビームプロセスや冷凍機(サップコールド)の販売に力点を置き活動をしてまいりました。  また、新たに次世代のナノ加工分野の重要な技術として期待されている、GCIB(ガスクラスターイオンビーム)プロセス装置を開発し、市場に投入する事になりました。  眼鏡やカメラレンズからスタートして、いまではデジタルカメラや携帯電話、医療用レンズを始め、光関連産業では新しい媒体が続々と生まれています。

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