小型設計ながら性能はキープ!高温での基板加熱が可能なスパッタ装置
『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。 シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。 基板上下機構を採用し、ターゲットと基板間の距離を任意に設定できます。 基板加熱を高温で行えるほか、電気とガスのみでの運転や、スパッタアップ とスパッタダウンの組み替えなども可能です。 【特長】 ■シンプル設計で省スペース ■ターゲットと基板間の距離を任意に設定可能 ■高温での基板加熱が可能 ■チラーを標準装備 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
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基本情報
【仕様】 ■到達真空度:1×10^-4 Pa以下 ■リーク量:1×10^-8 Pa・m3/sec以下(Oリング透過分を除く) ■排気系:TMP+ダイヤフラムポンプ(またはロータリーポンプ) ■真空計 フルレンジ真空計(コールドカソード+ピラニーゲージ) +キャパシタンスゲージ(オプション) ■基板ステージ:2インチ対応ステージ ■基板加熱温度:MAX500℃(オプションでMAX800℃にも対応可能) ■本体架台:キャスター・アジャスター付き(電源部を含む) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
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1972年、初代社長堀田が自宅の玄関先を作業場に 大誠産業株式会社を設立して以来、技術開発、 研究開発の仕事に打ち込んでまいりました。 当初は、気象研究所のポラックカウンタなどの開発に携わり、 空気を科学する仕事から始まりました。 その後、リークデテクタのメンテナンスサービスを 始めるなどして、次第に真空の世界に仕事を広げて行きました。 創立10年頃から超高真空の仕事が増え始め、 創立15年頃には小型の装置を製造できるようになりました。 現在、仕事の守備範囲は格段に増え、超高真空、 MBE、CVD、ECR、RFラジカル源など単に真空装置に止まらず、 各種のプラズマ、イオンあるいは電子を利用した 機能部品の開発を進めております。 今後、真に先端技術の世界で通用する 小企業を目標にしたいと考えております。