3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しました
当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。 コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。 内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。 また、3インチウェハ対応となっております。 【特長】 ■酸化シリコンを成膜 ■コンパクトな設計となっており省スペース化を実現 ■3インチウェハ対応 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■真空排気：ターボポンプ ■ヒーター：SiC MAX1200℃ ■水冷：外周蛇管 上フランジジャケット ■外寸：φ360 x 500H ■内面処理：電解研磨 ■ガスケット：金メッキ銅ガスケット ■チャンバー材質：SUS316 ■ガス吐出基板長間可変：0mm ～ 50mm ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
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企業情報
株式会社和泉テックは、理化学機器の販売を主とし、設計、製造も行う 物作りのできる商社として活動しています。 特に工業系の新素材、環境、科学、物理、電気、建築、土木関係に 関した物作りが得意です。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。