MEMS加工装置用イオン源に！ご要望に合わせたオーダーメイドが可能です
当製品は、大面積イオンビームによる高速ミリング処理に 適用できる大型イオン源です。 耐熱/低スパッタ率電極材料の採用により、低エネルギー アンペア級イオンビームを発生。 ご要望に合わせオーダーメイドいたします。 【特長】 ■荷電粒子軌道シミュレーションによるビーム均一性の最適化 ■耐熱/低スパッタ率電極材料を採用 ■低エネルギーアンペア級イオンビームを発生 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【装置仕様】 ■放電方式：多極磁場型 熱陰極DC放電(ECRプラズマ源も取付け可能) ■ビームサイズ：φ350mm ■ビーム仕様：1keV×2A ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【応用例】 ■MEMS加工装置用イオン源 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
ノベリオンシステムズ株式会社は、プラズマ応用装置の開発と製造販売、特殊成膜プロセスの加工受託を軸に事業を展開している会社です。技術開発型ベンチャー企業として、新規の技術ニーズに応えるべく、酸素や各種の活性ガスが使用できる ECR（電子サイクロトロン共鳴）高密度プラズマ源およびECR大電流イオンビーム源の開発を進めています。
