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最終更新日:2022年07月06日

ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
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テーブルトップサイズのオートフォーカス付きマスクレスアライナー

テーブルトップシステムのマスクレスアライナー µMLAは、最先端のマスクレステクノロジーを特徴としており、微細構造を必要とする全ての研究開発領域に適したエントリーレベルの描画装置です。典型的な用途は、マイクロフルイディクス、マイクロオプティクス、センサー、MEMS、および材料科学です。 µMLA(マイクロ・エム・エル・エー)はこれまでの卓上型直描装置よりも経済的でカスタマイズ可能な柔軟性に優れた最新式のマスクレス露光装置です。

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uMLA

マスクレスアライナー『uMLA』(マイクロ・エム・エル・エー)

uMLA with table.jpg
uMLA with table.jpg
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基本情報

描画領域:5 mm〜100mm角(オプション 125mm角へ拡張可能) 最小図形寸法:最小0.6 µm(最小寸法1um, 3umレンズセット有り) リアルタイムオートフォーカスシステム(標準:空圧式、オプション:光学式) 使いやすい操作ソフトウェア オプション多数有り:フィールドアライメント、ベクターモード、ドローモード、高速化、専用テーブル。 キーワード:レーザー露光装置、直描装置、直接描画装置、マスクレス

価格帯

1000万円 ~ 5000万円

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用途/実績例

回路、マイクロフルイディクス、マイクロオプティクス、センサー、MEMS、および材料科学などのマイクロストラクチャ

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マスクレスアライナー『uMLA』

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ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

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ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社は、レーザー直接描画装置やマスク描画装置の開発と製造を行う独国ハイデルベルグ・インストルメンツ・ミクロテクニック社の日本法人です。日本国内にてレーザー直接描画装置の販売及び技術サービスを行っています。レーザー描画装置やマスクレスアライナーなどの製品を数多くラインナップしています。レーザーリソグラフィーのことなら、是非当社にご相談ください。

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