三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発！実験内容や予算に応じてカスタマイズ可能
『NS-023』は、三種のターゲットを同時に成膜可能な三元マグネトロン スパッタリング装置です。 多元同時スパッタ以外にも、白金ヒーターを採用することで、基板の高温活性化 （ヒータ温度：950℃）や反応性スパッタなど様々な使い方に対応しています。 また、アシスト用プラズマ源も対応可能（ECR、ICP、他）です。 【特長】 ■三種のターゲットを同時に成膜可能 ■多元同時スパッタ以外にも、様々な使い方に対応 ■実験内容や予算に応じてカスタマイズ可能 ■アシスト用プラズマ源も対応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様(抜粋)】 ■スパッタ源：Φ2インチ マグネトロンカソード×3基 ■スパッタ方向：UP ■スパッタ方法：単元または多元同時スパッタ ■電源：RF500W 電源3基 ■対応基板：Φ2インチ 1枚 ■ヒーター加熱温度：MAX950℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
KKEは平成三年創立以来、今日まで皆様方の御厚い御支援、御協力を賜り厚く御礼を申し上げます。創立以前は私自身が技術業務に専念しておりました。その当時の学んだ事を糧にKKEは皆様と共に育って参りました。特に規格商品を持たず真空技術分野の「開発、設計、製造」を中心に手掛け、時には「産、官、学」共に御協力させて戴き大変喜ばしい事と存じます。お客様個別の仕様内容に応じ「開発、設計、製造」に最後まで取り組む姿勢を持って御客様のニーズに対し適確な判断の下で今日まで進んで参りました。21世紀の最先端科学技術に対応できる技術、開発指向型の企業を目指し「物創り」で社会に貢献することによって皆様方と共に幸福となるように努力致します。今後ともKKEを宜しくお願い致します。
