金属に高純度シリカガラスをコーティング！酸化が抑えられ耐食性が向上！金属汚染を抑えられ先進プロセスでの製品品質・歩留まりが改善！
チャンバーなどの半導体製造装置部材のコーティングに実績が多数ある『シリカコート Quartzace』では、 基材は金属、樹脂、ゴム、生体など、様々な基材に対応でき、基材の特長を活かしたまま、表面のみシリカガラスの特性が得られます。 例えば、金属にコーティングすれば、塩酸ガスなどに対してシリカガラスの優れた耐食性が得られます。 また、高温での金属の酸化も防ぐことが可能。 金属表面が合成石英並みのSiO2になることにより、メタルコンタミの問題を解決できます。 先進の半導体製造プロセスでは、微量の金属汚染が製品品質や歩留まりに大きく影響するため、チャンバー、チャンバー回りパーツ、フランジ類などへコーティングすることでメンテナンスサイクルが大きく改善します。 【概要】 ■組成：SiO2 ■膜厚：0.1～3μｍ ■耐熱：350℃（-196℃～900℃） ■目的：腐食対策、メタルコンタミ対策（F系のガス以外） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【用途】 ■チャンバー ■チャンバー回りパーツ ■フランジ類 など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社では、半導体製造工程におけるコンタミネーション制御に関する 各種ソリューション及びサービスを提供します。 ◆シリカコート；金属の表面が合成石英レベルの高純度SiO２になります。メタルフリーにより、メタルコンタミを防ぎます。 ◆SPP処理；SUS316Lの表面に緻密なCr2O3膜を形成し、HF、HCｌに対しても優れた耐食性が得られます ◆SPP-R処理；超撥水・撥油・低摺動の表面が得られます ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。