GaN基板の処理も可能！コンタクトアニール用ランプアニール(RTP)装置のご紹介
『RLA-3100-V』は、6インチまでの幅広いウェーハサイズに対応可能な コンタクトアニール用ランプアニール(RTP)装置です。 耐真空設計された石英チューブの採用でクリーンな真空(LP)環境、 N2ロードロック雰囲気での処理が可能です。 また、自動ウェーハ載せ替え機構を装備し、C to C搬送を実現します。 【特長】 ■～6インチまでの幅広いウェーハサイズに対応 ■自動ウェーハ載せ替え機構を装備し、C to C搬送を実現 ■真空対応によりアニール特性向上 ■N2ロードロック対応により短TATを実現 ■GaN基板の処理も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■使用温度範囲：600～1200℃ ■ウェーハサイズ：～6インチ ■使用ガス：N2、Ar、O2、H2 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■コンタクトアニール、酸化(減圧中での処理、N2ロードロック環境での処理が可能) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
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