圧力ベースマスフローコントローラ『GP200シリーズ』

GP200シリーズの金属シール型・圧力ベースのマスフローメータ（P-MFC）動作原理を動画で解説しております。（英語） https://www.youtube.com/watch?v=ZWB03A_9fo8 動画チャプター 00:00　Brooks Instrumentとは 01:00　従来型圧力ベースMFCとは 02:10　GP200圧力ベースMFCの紹介 03:30　GP200 MFCの利点 03:50　GP200 MFCの圧力計測方法 04:45　GP200の優位性 この圧力ベースのマスフローメータは、従来型の圧力ベースMFCが抱える制約を克服し、プロセス性能を大きく向上させる独自の設計を採用しています。

GP200シリーズは、半導体用途専用に設計された、初めての完全圧力非感応型PMFCです。GP200の独自の差圧技術と最先端のセンサー・バルブ構成により、従来の圧力ベースのマスフローコントローラの限界を取り除き、業界で最も広範囲かつ正確なプロセスガスコントロールを可能にします。 Brooksは世界で初めてガス種と流量範囲の再設定が可能なMFCを開発し、リリース以降もガスモデルを刷新し続けており、同じ機能がGP200にも組み込まれています。多くのガス種と幅広い流量範囲への再設定を容易に行うことができ、幅広いプロセスに柔軟に対応します。 GP200の超高速で再現性の高いバルブコントロールと圧力変動耐性により、極端に供給圧力が変動した場合でも、チャンバーへの精密な流量制御を維持し、よりタイトなプロセス制御を可能にします。GP200プラットフォームは幅広いプロセス条件をサポートし、従来の圧力ベースのマスフローコントローラの多くを交換または、アップグレードすることが可能です。

エネルギー革新における精密制御の実現 水素、燃料電池、CCUS、バイオ燃料、CNT製造。未来のエネルギーを支える 現場には、正確な流れを見守る技術があります。 ブルックスインスツルメントの流量計が、エネルギートランジションを支えます。 https://mono.ipros.com/product/detail/2001538519/

『最高の性能を最大限に引き出す』 半導体製造における高度なエッチングやデポジションのプロセスに特化して設計された、業界初の完全圧力不感応タイプの圧力ベースのマスフローコントローラ（P-MFC）です。 GP200シリーズP-MFCは、従来のP-MFCの限界を克服し、低蒸気圧のプロセスガスでも高精度なプロセスガス供給を可能にする特許取得済みのアーキテクチャを採用しています。また、差圧センサーを内蔵し、下流側にバルブを配置するなど独自の設計を採用することで、業界で最も広い範囲の動作条件で高精度のプロセスガス供給を可能にしています。 幅広いプロセス条件に対応しているため、従来のP-MFCやサーマルMFCの代替品やアップグレード品として使用することができます。また、圧力調整器や変換器などの部品が不要になるため、ガス供給システムを簡易化し、コストを低減することができます。 【主な用途】 ■ 半導体製造 ■ エッチング ■ CVD ■ 高純度のオールメタル流路を必要とするガス流量制御アプリケーション