『Park NX-Wafer』
『Park NX-Wafer』は、欠陥のイメージングと解析を完全自動で行う AFM計測手法により、欠陥検査における生産性を1,000％向上する 原子間力顕微鏡です。 正確でハイスループットのCMPプロファイル測定のための低ノイズ 原子間力プロファイラー。 サブÅの表面粗さを極めて正確に測定し、チップ間のバラツキを最小化します。 【特長】 ■欠陥のイメージングと解析を完全自動で行うAFMソリューション ■欠陥レビューにおける生産性を最大1000％向上 ■低ノイズ原子間力プロファイラーで正確且つ高スループットなCMP計測を実現 ■非常に正確で、チップーチップ間のバラツキも最小にしたサブÅ表面粗さ計測 ■原子間力プロファイラー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■システム仕様：電動XYステージ ・200 mm：駆動 275 mm × 200 mm、分解能0.5 µm ・300 mm：駆動 375 mm × 300 mm、分解能0.5 µm ■XYスキャナ レンジ：シングルモジュールフレクチャー式クローズドループXYスキャナ ・100 µm × 100 µm (ラージモード) ・50 µm x 50 µm (ミデアムモード) ・10 µm × 10 µm (スモールモード) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■自動欠陥レビュー機能を備えた唯一のウェハー検査用AFM ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
パーク・システムズは、原子間力顕微鏡（AFM）の開発に携わった創業者によって設立され、ナノスケールの顕微鏡・計測技術を世界に提供しているグローバル企業です。 試料や探針へのダメージを抑え、高精度な測定を可能にする独自のTrue NonContactAFM技術をはじめ、高精度な3D計測技術や自動化システムの開発を進め、研究開発向け装置から半導体産業向けの計測ソリューションまで幅広く展開しています。
