＜半導体関連マスク‐基本資料公開＞部署異動や転職で、はじめて各種マスクを扱われる方必見！マスクの構造や種類、製造方法を詳しく解説
竹田東京プロセスサービスでは、プリント基板や電子部品の電子回路形成用として使用される フォトマスク（ガラスマスク）、スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。 万全の生産体制で高精度かつ高品質なマスクでお客様の多様なニーズにお応えします！ 本資料は、当社ならではの視点で 『ガラスマスク・スクリーンマスク・メタルマスクの基本』を詳しくおまとめしています。 部署の異動や配属、転職等で新たにマスクをご使用になる方向けの資料です。ぜひ選定の際にご活用ください！ 【資料掲載内容】 ◎ガラスマスク編 ・基本構造、種類、作り方 ・ペリクル付きCrガラスマスクについて ・Emガラスマスク、Crガラスマスクについて ◎スクリーンマスク編 … 基本構造、乳剤の種類、作り方 ◎メタルマスク編 … 基本構造、種類、作り方 ＊本資料は［PDFダウンロード］よりご覧いただけます。 ＊その他ご不明な点は、お気軽にお問い合わせください。
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［当社について］ 竹田東京プロセスサービスでは、高い品質と精度のキャリブレーションプレート、 フォトマスク（ガラスマスク）、スクリーンマスク、メタルマスクを、短納期かつ低価格でご提供しております。 半導体関連のマスク製品にお困りの際は、ぜひ当社へお問い合わせください。
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【用途】 ・プリント基板や電子部品の電子回路形成用 ・各種製造装置の校正用
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