ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応可能！！
・ドライエッチング機種 Pishowシリーズ： シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能； 幅広く温度の工程に対応可能； エッチングの速度と均一性を精密制御； BOSOH工程に対応可能 ・成膜機種 Shale Cシリーズ： ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） 低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用
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基本情報
低価格、短納期で様々なニーズに応える
価格帯
納期
用途／実績例
HEMT工程のソリューションを提供、SiNx、TiN、pGaN、AlGaN層の特別処理が可能； DRIE技術をベースに、Si、SiCの深掘りに対応； MRAM開発に適用技術ご提供致します
詳細情報
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BOSOH工程に対応可能なICPエッチング装置
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SiNx製膜の応力を幅広く制御可能なPE-CVD装置
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高アスペクト比の穴埋めに適用なICP-CVD
企業情報
日星産業株式会社は、1947年に設立し、東京都中央区に本社を構え、創業以来、化学品をベースに幅広い専門商社として事業を展開しております。また、生活と産業を支える商品やハイテク商品から、保険、不動産などまで幅広い商品を取り扱っている会社です。