無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます
日本電子株式会社 BS-80020CPPS プラズマソースは、プラズマによる基板や基材の温度上昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。 プラスチックや有機フィルムへの成膜用途（プラズマアシスト蒸着）や表面改質用途に適しています。 〇特長 ・無加熱成膜でも密着性が良い ・填密度の高い薄膜が形成 ・既設の真空チャンバーへ後付けも可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【仕様】 最大放電出力：3.2kW (160V, 20A) 放電ガス(Ar)：8～20mL/min ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格情報
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価格帯
1000万円 ~ 5000万円
納期
※配送地域によって変動がございますので、お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例
【用途】 プラスチックや有機フィルムへの成膜プラズマアシスト蒸着）や表面改質
カタログ（1）
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企業情報
当社アズサイエンス株式会社は昭和49年（1974年）に発足以来、科学分野から医療分野に強みを持つ専門商社として、地域社会に貢献し生命追求科学の進歩を支えて参りました。 理化学機器・医療機器・検査機器・分析機器・体外診断薬・医薬品・試薬・消耗品など様々な分野の商品を取り揃えており、高度化・多様化するお客様のニーズにお応えします。更にネットワークを活用したソフト開発を積極的に進め、お客様のシステム化やお客様とのコミュニケーションの活性化に取り組んでいます。
