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フラッシュランプアニール装置『SUS980シリーズ』

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最終更新日:2023年12月07日

ウシオ電機株式会社
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ワークサイズに応じて、フラッシュランプを複数本配置!大面積で一括照射、高照射が可能!

『SUS980シリーズ』は、結晶化、剥離、酸化膜形成などの用途にお使いいただける フラッシュランプアニール装置です。 ランプに流れる電流を半導体スイッチでON/OFF制御することで、 ランプ電流パルス幅の調整が出来、加熱深度をコントロール(0.1~60msec)。 ワークサイズに応じて、フラッシュランプを複数本配置し大面積で一括照射、 高照射が可能です。 【特長】 ■深さコントロール(バルス制御) ■ランプに流れる電流を半導体スイッチでON/OFF制御 ■ランプ電流パルス幅の調整が出来、加熱深度をコントロール(0.1~60msec) ■複数パルスの照射も可能 ■高出力・大面積一括処理(タクト短縮、高均一度) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

    加熱装置
スライド16.JPG

フラッシュランプアニール装置『SUS980シリーズ』

スライド16.JPG
スライド16.JPG 2023-05-29_13h48_43.png 2023-05-29_13h48_50.png 2023-05-29_13h49_07.png
  • 関連リンク - https://www.ushio.co.jp/jp/feature/thermal/product…
  • 特設サイト - 製品・サービス詳細 - https://pr.mono.ipros.com/ushio/product/

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基本情報

【仕様(抜粋)】 <実験用/大面積用> ■照射エリア(mm):100×150/500×500 ■照射エネルギー(J/cm2):~40/~4 ■均一度(%):75以上/90以上 ■パルス幅設定範囲(msec):1~60 ■発光周期(sec):60以上/6.5以上 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯

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用途/実績例

【用途】 ■結晶化 ■剥離 ■酸化膜形成 ■焼成 ■接着 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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SEMICON Japan 2024へ出展いたします

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弊社では2024年12月11日 (水) 〜 13日 (金)にかけて東京ビッグサイトで開催される SEMICON Japan 2024へ出展いたします 昨年同様、各種光加熱製品を出展しますので、ご来場をお待ちしております。

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