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最終更新日:2023年09月04日

有限会社デュブリン・ジャパン・リミテッド 本社
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プロセスの安定性を維持!誘電体および金属材料のナノメートル厚の膜を配置

当社の半導体における、回路形成「CVD(化学蒸着)」についてご紹介します。 化学蒸着は、ウェーハ上に誘電体および金属材料の ナノメートル厚の膜を配置。 このプロセスは非常に高温(800-2000℃)になるため、 デュブリン回転ユニオンで機器を冷却することで、 プロセスの安全性を維持します。 【特長】 ■ウェーハ上に誘電体および金属材料のナノメートル厚の膜を配置 ■デュブリン回転ユニオンによる機器冷却で、プロセスの安全性を維持 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【回路形成】CVD(化学蒸着)

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当社は1945年創設以来、ロータリージョイントの専業メーカーとして最高の製品をお客様に提供するという理念を堅持して参りました。 近年は、回転体に電気信号やデータ及び電力のやり取りを行うスリップリングにおいても、独自の設計思想による個性的な製品を生み出しております。 当社はお客様の構想を実現させるため、熟練したエンジニアリングチームと近代的な製造設備により、強力な解決方法をご提案して参ります。 ユーザー様が真にご納得戴ける、最善の製品をご用意致します。 日本語webサイトを公開しました。 https://www.deublin.com/ja-JP/

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