早くて正確な半導体製造プロセス
柔軟度が高く正確なプロセスコントロール 200mmもしくは300mmウェハー用の自動ウェットプロセシングシステムである本製品はキャリア有無どちらでも使用でき、正確なプロセスモニタリ ング、高い生産性と柔軟性を持つように設計されております。 RENAのSemi Processing Platformはお客様の要求によって調整できる柔軟性を持ち、最大の生産品質と量産性をもたらします。 特筆すべきは、フレキシブルキャリアレスハンドリングシステムで、厚みの異なるウェハーを同時に加工することが可能です。
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基本情報
【仕様】 ■ アプリケーション：洗浄（SPM,SC1, SC2, DFH/O3等）、乾燥 ■ プロセスコントロール：薬液/オゾン濃度モニター、純粋比抵抗、薬液コントロール ■ 基板材質：シリコン、SiC, GaAs, GaN, InP, Glass, Sappire ■ 膜厚：500～2000 μm ■ 筐体：PP、FM4910相当、ステンレス枠 ■ 寸法：幅2200mm、高さ 3600mm (フローボックス含む） ■ モジュール寸法： ウェハーサイズ 200 mm / 8” 300 mm / 12” 2槽 1400 mm 1600 mm 3槽 2100 mm 2400 mm ■ オプション：全自動ローダーアンローダーバッファーステーション、カスタムプロセスキャリア、薬液集中供給システム
価格帯
納期
※仕様によって納期が変動致しますので、お気軽にお問い合わせください。
用途／実績例
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企業情報
半導体製造装置やその部品について、新品から中古品までお客様のニーズに合わせてご提案しております。海外メーカーの正規販売代理店として輸入販売している他、保証・アフターサービスのあるリファービッシュ品も提供。また、過剰装置の買取お及び移設・撤去も対応可能です。スタッフが在住しているため、アジアを中心とした海外でのサポートもご相談ください。経験を駆使して、お客様の生産業務を総合的にサポートいたします。