加熱in-situ TEMを用い、半導体デバイスの熱処理中の材料の構造変化をnmレベルで可視化、プロセス開発に役立てる事例紹介。
技術情報誌The TRC Newsは、研究開発、生産トラブルの解決、品質管理等のお役に立つ分析技術の最新情報です。 【要旨】 半導体デバイスの開発・製造において、熱処理工程における材料の構造変化を把握することは非常に重要である。加熱in-situ TEMを用いることにより、熱処理中の材料の熱挙動をnmレベルで可視化し、構造変化に関する新たな知見を得て、膜質制御などプロセス開発に役立てることが可能となる。本稿では、加熱in-situ TEMを用いて、(1)結晶構造解析を併用したアモルファスシリコン膜の結晶成長メカニズム解析、(2)元素分析を併用した金属積層膜の熱挙動把握、(3)平面での薄膜ルテニウム膜の結晶成長過程の観察を行った事例を紹介する。 【目次】 １. はじめに ２. 加熱in-situ TEMの概要と特長 ３. 加熱in-situ TEMの解析事例 ４. まとめ
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技術情報誌The TRC News「加熱in-situ TEMを用いた半導体材料のその場観察」 【要旨】 半導体デバイスの開発・製造において、熱処理工程における材料の構造変化を把握することは非常に重要である。加熱in-situ TEMを用いることにより、熱処理中の材料の熱挙動をnmレベルで可視化し、構造変化に関する新たな知見を得て、膜質制御などプロセス開発に役立てることが可能となる。本稿では、加熱in-situ TEMを用いて、(1)結晶構造解析を併用したアモルファスシリコン膜の結晶成長メカニズム解析、(2)元素分析を併用した金属積層膜の熱挙動把握、(3)平面での薄膜ルテニウム膜の結晶成長過程の観察を行った事例を紹介する。 【目次】 １. はじめに ２. 加熱in-situ TEMの概要と特長 ３. 加熱in-situ TEMの解析事例 ４. まとめ 【図表】 図1～図8 TEM像、SEM像、結晶方位解析など 示す
価格情報
2,200円（税込）
価格帯
~ 1万円
納期
即日
※web申し込み、Paypal決済
用途／実績例
https://www.toray-research.co.jp/service/trcnews/をご覧下さい
企業情報
株式会社東レリサーチセンターでは、受託分析を通じて、研究開発や生産分野における様々な課題に対して、分析技術や物性解析による技術支援を行っております。分析・物性評価の長年の実績と豊富な経験に基づき、高度で広範囲にわたるお客様のご要望にお応えできるよう努力を続けております。
