高周波誘導加熱で熱処理工程における様々な課題を解決します。
誘導加熱(IH)は、金属・カーボン等の導電性材料を加熱するための非接触で火炎を使用しない加熱方式です。 【誘導加熱のメリット】 ・サイクルタイム/タクトタイムの改善 誘導加熱の出力はワークの自己発熱としてワーク上で直接消費されるため、急速な昇温が可能です。 ・歩留まりの向上、再現性の確保 電気的な制御での加熱のため、加熱プロセスの再現性が向上します。 ・ワークの品質改善 加熱コイルの形状によって発熱部位の制御も可能、 また、急速加熱によって加熱が不要な部分への熱伝導を減少させることで品質改善が見込めます。 ・作業場環境の改善 可燃物を燃焼する加熱方法と異なり燃焼副産物を生成しないため、汚染物質の排出を抑えられます。 開放火炎や炉体の高温表面といったものが無いため、使用環境温度の上昇が抑えられます。 ・SDGs/ 脱炭素化 直接的にエネルギーを被加熱物に伝達するため、熱損失が最小限に抑えられます。 効率は最大90-95%に達し、これにより消費エネルギーと製造プロセスの炭素排出量が大幅に削減されます。
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基本情報
出力2～500kWの範囲で様々な動作周波数帯を持つ製品ラインナップがあり、 加熱条件に合わせて機器の選定をさせていただきます。 導入検討の一助となるよう、初回は無償で加熱テストを承っております。 ワークのみの送付、お立ち会いでの試験も可能です。 加熱したいワークの材質・寸法、目標温度・時間等の情報をいただいた上で、 加熱条件に適した試験機（出力・周波数帯）とテストコイルの選定をさせていただきます。 ※ワーク形状、加熱条件によっては簡易的な出力試算・シミュレーションも可能です。
価格帯
納期
用途／実績例
工業的な利用例 ・半田付け、ろう付け ・焼入れ、焼鈍し、焼戻し ・焼嵌め ・かしめ ・加熱成形 ・材料試験 ・金属の溶解・浮遊溶解 ・樹脂材への金属の接合、金属圧入 ・ゲッター処理 ・塗装乾燥 ・ハイパーサーミア
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企業情報
誘導加熱用電源と加熱装置、プラズマ用高周波電源、ＲＦパワーアンプなど、高周波の工業利用及び理化学研究用の高周波電源とその高周波利用装置を製造販売しています。 誘導加熱電源は、出力1.2kWから500Kwまで幅広く取り揃えており、特に他に類のない小型化と広い周波数範囲をカバーするため、今まで誘導加熱の適用が困難であったアプリケーションにも応用されています。 プラズマ用電源とＲＦアンプについては、米国の系列会社にてエンジニアリングと製造を行い、販売のほか応用機器の設計製造を行なっています。 半導体装置用プラズマ高周波電源と広帯域増幅器の３０年以上の経験を踏まえ、的確なエンジニアリング業務でお客様の理想を実現します。 機器選定のための加熱テストも初回無償で承っております。