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テフロン(TM)コーティング

最終更新日:2026年02月19日

株式会社吉田SKT
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金属イオン溶出を極めて低水準に抑制。高純度が求められる半導体製造工程に対応

半導体製造では、金属イオンの溶出が製品品質に直結する重大な課題です。 フッ素樹脂コーティングは非常に安定した被膜を形成し、金属イオンの溶出を極めて低水準に抑えることが可能です。 コーティング膜自体が化学反応を起こしにくいため、長期間の使用でも性能が変わらず、信頼性の高い保護を提供します。 吉田SKTはテフロン(TM)コーティングのパイオニアとして、高純度対応が求められる半導体製造分野で豊富な実績を有しています。 お客様の工程条件に応じた最適なグレード選定とカスタマイズ対応が可能です。 詳しくは資料をダウンロードするかお問い合わせください。

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半導体製造装置向け 高純度コーティング

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基本情報

【主な機能】 ・高純度対応:金属イオンの溶出を極めて低水準に抑制 ・安定性:コーティング膜の化学変化や反応がほとんど発生しない ・長期信頼性:長期間使用でも性能を維持する安定した被膜 【グレード】 ・要求純度や工程条件に合わせて最適なグレードを選定可能

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用途/実績例

【用途例】 ・洗浄槽:金属イオン溶出防止による高純度プロセスの維持 ・CMP駆動部品:金属摩耗粉・金属イオンの飛散防止 ・めっき装置部品:めっき液の品質維持 詳しくは資料をダウンロードいただくか、お問い合わせください。

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半導体製造における フッ素樹脂コーティングの役割と重要性|株式会社吉田SKT

半導体製造における フッ素樹脂コーティングの役割と重要性|株式会社吉田SKT

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テフロン(TM)フッ素樹脂コーティングの指南書『テフロン(TM)ふっ素樹脂加工』「製品カタログ」

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製造装置や機械部品の性能を最大限に引き出すため、 吉田SKTは数百種類の表面処理技術から、お客様だけの「最適解」を導き出します。 ・粘着トラブルによる生産性低下 ・摩擦による製品品質の不安定化 ・腐食による設備の早期劣化 こうした製造現場の課題に、豊富な実績と確かな技術力で応えます。 1963年、フッ素樹脂加工を開始。 1968年には米国デュポン社(現ケマーズ社)とのライセンス契約を締結し、 自動車から医療、航空宇宙まで、2,000社を超えるお客様の製造革新をサポートしています。 さらに2024年にはPFASフリーコーティングを開発するなど、次世代製品の開発にも注力。 持続可能な製造業の発展に貢献します。 名古屋・東京・山口の3拠点体制で、量産から特注品まで柔軟に対応。 一貫した品質管理体制により、確かな品質をお届けします。 製造現場の課題解決は、表面処理のエキスパート、吉田SKTにお任せください。

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