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インライン固液混合分散システム

最終更新日:2026年05月14日

澁谷工業株式会社 メカトロ統轄本部
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CNTの分散状態を壊さず安定化するインライン連続式プロセス(分散機)

CNT水分散液の製造では、凝集を解砕するだけでなく、分散状態を維持することが重要となります。CNTはナノレベルで強く凝集しやすく、一度分散しても再凝集が発生するため、安定した品質確保が課題となります。本システムはインライン連続式により、分散から安定化までを一貫して制御。過度なせん断を抑えながら均一な分散状態を維持し、再凝集を防止します。水系・低〜中粘度条件に対応し、CNT分散液の品質安定化と量産プロセスの再現性向上に貢献します。さらに、分散条件や滞留時間の最適化により、分散状態のばらつきを抑制し、安定した品質を継続的に確保することが可能です。ラボから量産まで一貫したスケールアップ設計にも対応し、CNT分散液の安定製造を支援します。

    乳化・分散機分散・乳化装置・ホモジナイザー真空脱泡機
インライン固液混合パイロットプラント.jpg

CNT水分散液製造システム(インライン連続式 分散機)

インライン固液混合パイロットプラント.jpg
インライン固液混合パイロットプラント.jpg IKA+shibuya .png インライン固液混合パイロットプラント.jpg IPROS29562848587318290804.png
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  • 特設サイト - 製品・サービス詳細 - https://pr.mono.ipros.com/shibuya/product/

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基本情報

CNT水分散液製造に対応したインライン連続式固液混合分散システムです。低〜中粘度領域においても安定した分散処理が可能で、再凝集を抑制するためのせん断制御・滞留時間設計に対応。分散状態を維持しながら均一化を図るプロセス設計が可能です。ラボスケールからパイロット、量産まで一貫したスケールアップに対応し、再現性の高い分散プロセスを構築します。

価格情報

仕様により異なります。

納期

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用途/実績例

【対象用途】 ・CNT水分散液(導電材料用途) ・CNTインク・コーティング材料 ・ナノ材料分散液 ・導電性材料の前駆体分散 ・機能性材料分散プロセス

詳細情報

  • IKA+shibuya

    世界的に有名なIKAグループと澁谷工業は2010年より業務・技術提携をしており、インライン連続分散システムを共同で取り組んでおります。

  • インライン固液混合パイロットプラント.jpg

    インライン固液混合パイロットプラント。連続混合によりダマを抑制しながら安定分散を実現します。省スペースかつ短時間処理に対応し、研究開発から量産まで一貫したスケールアップ検討が可能です。

  • IPROS29562848587318290804.png

    卓上で使用できる小型実験機です。プロセス検討の初期段階でご利用いただけます。

ラインアップ(1)

型番 概要
インライン固液混合分散システム

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電池材料向けインライン固液混合分散システム

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この製品に関するニュース(2)

真空脱気とロスインウェイト制御により、微粉末を安定供給

なぜ粉体は安定供給できないのか?~低かさ密度粉体で発生する供給ムラの原因とは~

  • その他・お知らせ

低かさ密度粉体や微粉体では、「供給量が安定しない」「脈動する」「ブリッジして落ちない」といったトラブルが多く発生します。特にCNTやカーボンブラック、フレーク粉体などは、粒子同士が絡みやすく、流動性が低いため、一般的な粉体供給では安定した定量供給が難しくなります。 粉体供給が不安定になると、瞬間的な濃度変動が発生し、後工程の分散品質や粘度、導電性などにも大きく影響します。実際には「分散不良」と見えている問題でも、原因が粉体供給側にあるケースは少なくありません。 また、低かさ密度粉体では、ホッパー内でのブリッジやラットホール、空気巻込みによる供給脈動が発生しやすく、単純にフィーダー能力だけでは解決できない場合があります。安定供給を実現するためには、粉体特性に応じたホッパー設計、供給方式、搬送条件、投入方法を含めた工程全体の設計が重要です。 当社では、ロスインウェイトフィーダーを用いた定量供給から、インライン分散装置との連携まで含めた固液混合プロセスをご提案しています。粉体供給から分散までを一体で設計することで、高機能材料においても安定した製造条件の構築を支援します。

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分散不良では粒子が凝集したままとなり、沈降や品質ばらつきの原因となる

分散トラブルの原因とは?凝集・沈降・ばらつきが発生する理由と分散工程で見直すべき設計ポイントを解説

  • その他・お知らせ

分散工程において、凝集が解消されない、沈降が発生する、粒度分布が安定しないといったトラブルは多くの現場で発生しています。これらの問題は装置の性能だけでなく、粒子特性や分散条件、工程設計の不整合によって引き起こされます。例えば、分散エネルギーが不足している場合、粒子は一次粒子まで解砕されず凝集が残存します。また、せん断条件や流動状態が適切でない場合、均一な分散が得られず、沈降や品質ばらつきの原因となります。特に高粘度系や高固形分スラリーでは、わずかな条件差が結果に大きく影響します。さらに、バッチ処理では混合ムラや滞留時間のばらつきにより、再現性の確保が難しくなります。これらの分散トラブルを解決するためには、単に装置を変更するのではなく、粒子特性・分散エネルギー・流動設計を含めたプロセス全体の最適化が重要です。インライン連続処理のように条件を一定に保つことで、安定した分散品質と再現性の確保が可能となります。

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澁谷工業株式会社は、レーザ加工機(ファイバレーザ・CO2レーザ等)や半導体組立装置(テーピングマシン、多機能テストハンドラ、ボールマウンタ、ボンダ等)を中心とした精密機械分野において、高速・高精度搬送技術と制御技術を強みに事業を展開しています。 また、世界トップクラスのシェアを誇るボトリングシステムで培ったラインエンジニアリング技術を基盤に、原料(液体・粉体)計量から高粘度スラリー分散、CIP洗浄管理まで、調合プロセス全体の設計・最適化を実現しています。 固液混合分散システムでは、ラボ検証からパイロット、量産ラインまで一貫したスケールアップ対応により、「止まらない・汚さない」安定した生産プロセスを構築。さらに、医薬分野におけるアイソレータや洗浄システムなど、高度な品質要求に応える装置開発にも対応し、多様な産業の生産技術を支えています。 加えて、半導体分野では高精度位置決めや高速搬送制御などのコア技術を応用し、生産性向上と品質安定化に貢献。固液混合分散分野においても、分散状態の安定化や再現性向上といった課題に対し、工程設計を通じて解決しています。

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